[发明专利]半导体器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201680055999.7 申请日: 2016-02-23
公开(公告)号: CN108140577B 公开(公告)日: 2022-09-09
发明(设计)人: 出口善宣;渡边彰信 申请(专利权)人: 瑞萨电子株式会社
主分类号: H01L21/3205 分类号: H01L21/3205;H01L21/768;H01L23/522
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 陈伟;王娟娟
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 半导体器件具有半导体衬底(SB)和形成在半导体衬底(SB)的主面上的布线构造。布线构造所包含的多个布线层中的最上方的第1布线层包含焊盘(PD),焊盘(PD)具有用于接合铜导线的第1区域、和用于使探针接触的第2区域。布线构造所包含的多个布线层中的比第1布线层低一层的第2布线层包含配置在焊盘(PD)的正下方的布线(M6),布线(M6)配置在焊盘(PD)的第1区域以外的区域的正下方,在焊盘(PD)的第1区域的正下方,没有形成与布线(M6)同层的导体图案。
搜索关键词: 半导体器件 及其 制造 方法
【主权项】:
一种半导体器件,具有:具有焊盘的半导体芯片;与所述半导体芯片的所述焊盘电连接的铜导线;和将所述半导体芯片及所述铜导线封固的封固树脂部,所述半导体器件的特征在于,所述半导体芯片具有:半导体衬底;和形成在所述半导体衬底的主面上的、包含多个绝缘膜和多个布线层的布线构造,所述多个布线层中的最上方的第1布线层包含所述焊盘,所述焊盘具有用于接合所述铜导线的第1区域、和用于使探针接触的第2区域,所述多个布线层中的比所述第1布线层低一层的第2布线层包含配置在所述焊盘的正下方的第1布线,所述第1布线配置在所述焊盘的除所述第1区域以外的区域的正下方,在所述焊盘的所述第1区域的正下方,没有形成与所述第1布线同层的导体图案。
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