[发明专利]用于凸块下金属结构的套环及相关联的系统及方法有效
申请号: | 201680053250.9 | 申请日: | 2016-08-03 |
公开(公告)号: | CN108028229B | 公开(公告)日: | 2021-08-31 |
发明(设计)人: | G·马里奥蒂尼;S·瓦德哈维卡;W·黄;A·查杜鲁;M·博斯勒 | 申请(专利权)人: | 美光科技公司 |
主分类号: | H01L23/00 | 分类号: | H01L23/00;H01L23/31;H01L23/488;H01L21/60 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 王龙 |
地址: | 美国爱*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及用于裸片间及/或封装间互连件的凸块下金属UBM结构环的制造及相关联的系统。一种半导体裸片包含:半导体材料,其具有固态组件;及互连件,其至少部分延伸穿过所述半导体材料。凸块下金属UBM结构形成于所述半导体材料上方且电耦合到对应互连件。套环包围所述UBM结构的侧表面的至少一部分,且焊接材料安置于所述UBM结构的顶面上方。 | ||
搜索关键词: | 用于 凸块下 金属结构 相关 系统 方法 | ||
【主权项】:
1.一种半导体裸片,其包括:半导体材料,其具有固态组件;互连件,其至少部分延伸穿过所述半导体材料;凸块下金属UBM结构,其电耦合到所述互连件,其中所述UBM结构具有顶面、底面及在所述顶面与所述底面之间延伸的一侧壁;套环,其包围所述UBM结构的所述侧壁的至少一部分;及焊接材料,其安置于所述UBM结构的所述顶面上方,其中所述套环包括所述焊接材料不易于在液相中湿润其的抗湿材料。
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