[发明专利]半导体装置有效
申请号: | 201680018576.8 | 申请日: | 2016-03-31 |
公开(公告)号: | CN107408507B | 公开(公告)日: | 2021-09-14 |
发明(设计)人: | 石田笃司;细川畅郎;永野辉昌;马场隆 | 申请(专利权)人: | 浜松光子学株式会社 |
主分类号: | H01L21/3205 | 分类号: | H01L21/3205;H01L21/768;H01L23/522;H01L23/532 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 杨琦;黄浩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明所涉及的半导体装置(1)中的贯通孔(7)为垂直孔。对于包含贯通孔(7)的中心线(CL)的平面来说在分别着眼于中心线(CL)的两侧区域的情况下,将连结对应于绝缘层(10)的开口(10a)的边缘的第1点(X1)和对应于第2开口(7b)的边缘的第2点(X2)的线段设定为第1线段(S1),将连结第2点(X2)和对应于第2开口(7b)与绝缘层(10)的表面(10b)交叉的点的第3点(X3)的线段设定为第2线段(S2),将连结第3点(X3)和第1点(X1)的线段设定为第3线段(S3)。此时,相对于第1线段(S1)位于一方侧的绝缘层(10)的第1面积(A1)大于由第1线段(S1)和第2线段(S2)以及第3线段(S3)围起来的绝缘层(10)的第2面积(A2)与相对于第3线段(S3)位于另一方侧的绝缘层(10)的第3面积(A3)之和。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
【主权项】:
一种半导体装置,其特征在于:具备:半导体基板,具有互相相对的第1表面以及第2表面并形成有从所述第1表面到所述第2表面的贯通孔;第1配线,设置于所述第1表面并且一部分位于所述贯通孔的所述第1表面侧的第1开口上;绝缘层,设置于所述贯通孔的内面以及所述第2表面并且经由所述贯通孔的所述第2表面侧的第2开口而连续;以及第2配线,设置于所述绝缘层的表面并且在所述绝缘层的所述第1表面侧的开口电连接于所述第1配线,所述贯通孔为垂直孔,关于包含所述贯通孔的中心线的平面,在分别着眼于所述中心线的两侧区域的情况下,将连结对应于所述绝缘层的所述开口的边缘的第1点和对应于所述第2开口的边缘的第2点的线段设定为第1线段,将连结所述第2点和对应于所述第2开口与所述绝缘层的所述表面交叉的点的第3点的线段设定为第2线段,将连结所述第3点和所述第1点的线段设定为第3线段,此时,相对于所述第1线段位于所述贯通孔的所述内面侧的所述绝缘层的第1面积大于由所述第1线段、所述第2线段以及所述第3线段围起来的所述绝缘层的第2面积与相对于所述第3线段位于与所述贯通孔的所述内面相反侧的所述绝缘层的第3面积之和。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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