[发明专利]金属掩模基材、金属掩模基材的管理方法、金属掩模以及金属掩模的制造方法有效
| 申请号： | 201680013004.0 | 申请日： | 2016-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN107406964B | 公开（公告）日： | 2018-12-18 |
| 发明（设计）人： | 田村纯香;三上菜穗子;藤户大生;西辻清明;西刚广 | 申请（专利权）人： | 凸版印刷株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;H01L51/50;H05B33/10 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 戚宏梅;杨谦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及金属掩模基材、金属掩模基材的管理方法、金属掩模以及金属掩模的制造方法。金属掩模基材具备构成为配置有抗蚀剂的金属制的表面，入射到表面的光的镜面反射的反射率为45.2％以上。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 基材 管理 方法 以及 制造 | ||
【主权项】：
1.一种金属掩模基材，具备金属制的表面，该金属制的表面构成为配置有抗蚀剂，其中，与上述金属掩模基材的轧制方向正交的方向为宽度方向，从卤素灯射出且相对于上述表面的法线方向的入射角度为45°±0.2°的光的镜面反射的反射率之中，与上述表面垂直且与上述轧制方向正交的第一平面内的上述镜面反射的反射率为第一反射率，而且，与上述表面垂直且与上述宽度方向正交的第二平面内的上述镜面反射的反射率为第二反射率，上述第二反射率大于上述第一反射率，上述第一反射率为45.2％以上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于凸版印刷株式会社，未经凸版印刷株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201680013004.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
