[发明专利]金属掩模基材、金属掩模基材的管理方法、金属掩模以及金属掩模的制造方法

权利要求书

1.一种金属掩模基材，具备金属制的表面，该金属制的表面构成为配置有抗蚀剂，其中，

与上述金属掩模基材的轧制方向正交的方向为宽度方向，

从卤素灯射出且相对于上述表面的法线方向的入射角度为45°±0.2°的光的镜面反射的反射率之中，与上述表面垂直且与上述轧制方向正交的第一平面内的上述镜面反射的反射率为第一反射率，而且，与上述表面垂直且与上述宽度方向正交的第二平面内的上述镜面反射的反射率为第二反射率，

上述第二反射率大于上述第一反射率，

上述第一反射率为45.2％以上。

2.如权利要求1所述的金属掩模基材，其中，

上述表面包含从上述第二反射率减去上述第一反射率而得到的差为10.2％以上的部分。

3.一种金属掩模基材的管理方法，其中，具备如下步骤：

准备具备金属制的表面的金属掩模基材，该金属制的表面构成为配置有抗蚀剂；

使从卤素灯射出且相对于上述表面的法线方向的入射角度为45°±0.2°的光向上述表面入射；

对入射到上述表面的光之中由上述表面镜面反射的光的光量进行测定；

作为上述镜面反射的光的光量相对于入射到上述表面的光的光量之比，对上述镜面反射的反射率进行计算；以及

判断上述镜面反射的反射率是否为45.2％以上，

与上述金属掩模基材的轧制方向正交的方向为宽度方向，

上述镜面反射的反射率之中，与上述表面垂直且与上述轧制方向正交的第一平面内的上述镜面反射的反射率为第一反射率，而且，与上述表面垂直且与上述宽度方向正交的第二平面内的上述镜面反射的反射率为第二反射率，

判断上述第二反射率是否大于上述第一反射率，

在对上述镜面反射的反射率进行计算的步骤中，计算上述第一反射率及上述第二反射率，

在判断上述镜面反射的反射率是否为45.2％以上的步骤中，判断上述第一反射率及上述第二反射率是否为45.2％以上。

4.如权利要求3所述的金属掩模基材的管理方法，其中，

上述抗蚀剂为干膜抗蚀剂，

上述表面构成为粘贴有上述干膜抗蚀剂。