[发明专利]聚合物及正型抗蚀剂组合物在审
| 申请号： | 201680009428.X | 申请日： | 2016-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN107207665A | 公开（公告）日： | 2017-09-26 |
| 发明（设计）人： | 星野学 | 申请（专利权）人： | 日本瑞翁株式会社 |
| 主分类号： | C08F212/06 | 分类号： | C08F212/06;C08F220/22;G03F7/039;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙)11413 | 代理人： | 赵曦,刘继富 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供可良好地用作低照射量时的减膜率低、且γ值和灵敏度高的正型抗蚀剂的聚合物、以及可高效地形成高分辨率的图案的正型抗蚀剂组合物。本发明的聚合物含有α‑甲基苯乙烯单元和α‑氯丙烯酸甲酯单元，分子量分布(Mw/Mn)小于1.48，分子量小于6000的成分的比例为0.5％以下，而且分子量超过80000的成分的比例为6.0％以下。此外，本发明的正型抗蚀剂组合物包含上述的聚合物和溶剂。 | ||
| 搜索关键词： | 聚合物 正型抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】：
一种聚合物，其含有α‑甲基苯乙烯单元和α‑氯丙烯酸甲酯单元，分子量分布Mw/Mn小于1.48，分子量小于6000的成分的比例为0.5％以下，分子量超过80000的成分的比例为6.0％以下。
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