[发明专利]低摩擦覆膜的制造方法和滑动方法有效
| 申请号： | 201680008163.1 | 申请日： | 2016-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN107208264B | 公开（公告）日： | 2020-01-24 |
| 发明（设计）人： | 加藤孝久;野坂正隆;远山护;铃木雅裕 | 申请（专利权）人： | 株式会社捷太格特;国立大学法人东京大学 |
| 主分类号： | C23C16/26 | 分类号： | C23C16/26;C10M103/02;F16C19/00;F16C33/12;F16C33/24;F16C33/64 |
| 代理公司： | 11219 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王海川;穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 在1.0GPa以上的赫兹接触应力下，在含有包含微量的醇和水的氢气的气氛环境中，使使用金属(SUJ2、钯等)或氧化物陶瓷(ZrO | ||
| 搜索关键词： | 摩擦 制造 方法 滑动 | ||
【主权项】：
1.一种低摩擦覆膜的制造方法，其包括：/n将空间中的气氛置换为含有含羟基化合物和氢气与氮气中的至少一者的气氛的置换步骤，其中在所述空间中配置有由金属或陶瓷形成的滑动面和包含非晶态碳基膜的被滑动面；和/n在已将含有含羟基化合物和氢气与氮气中的至少一者的气氛设置在所述空间中的状态下，使所述滑动面因1.0GPa以上的赫兹接触应力而与所述被滑动面接触而相对滑动的滑动步骤，其中通过所述滑动步骤在所述滑动面上形成所述低摩擦覆膜。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社捷太格特;国立大学法人东京大学，未经株式会社捷太格特;国立大学法人东京大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201680008163.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：轧辊磨削表面缺陷检测系统
- 下一篇：一种汽车天窗用蘑菇搭扣卡槽
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
