[发明专利]低摩擦覆膜的制造方法和滑动方法

说明书

在1.0GPa以上的赫兹接触应力下，在含有包含微量的醇和水的氢气的气氛环境中，使使用金属(SUJ2、钯等)或氧化物陶瓷(ZrO₂)形成的滑动面6与包含PLC膜9的被滑动面7接触而滑动，所述PLC膜9为通过在施加低偏压的同时进行电离沉积法形成的覆膜。因此，可以在滑动面6上形成稳定地显现10^‑4数量级(低于0.001)的显著低的摩擦系数的低摩擦覆膜5。

技术领域

本发明涉及制造低摩擦覆膜的低摩擦覆膜的制造方法，和使滑动面与非晶态碳基膜接触而滑动的滑动方法。

背景技术

为了减少滑动系统的摩擦，已经提出将固体润滑膜配置在滑动构件的滑动面上。例如，已知DLC(类金刚石碳)膜是这样的固体润滑膜。以下专利文献1公开了一种低摩擦滑动机构，通过该机构使含有含氧有机化合物或脂肪族胺化合物的低摩擦剂组合物供应到包含DLC膜的滑动面。

此外，以下专利文献2公开了一种低摩擦润滑组件，其包含具有第一滑动面的第一构件和具有第二滑动面的第二构件。第一滑动面对O-H基具有化学亲和力。第二滑动面是最外侧具有OH基的滑动面。在第一滑动面与第二滑动面之间供应含氧有机化合物(液体润滑剂)，从而可以在第一滑动面与第二滑动面之间形成最外侧具有氢基的摩擦膜。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2005-98495号公报

专利文献2：日本特开2012-92351号公报

发明内容

本发明要解决的问题

在专利文献1中所公开的低摩擦滑动机构和专利文献2中所公开的低摩擦润滑组件中，意图降低滑动部的摩擦系数。

然而，在专利文献1和专利文献2中，在于滑动面上供应有液体润滑剂的状态(流体润滑)下进行滑动。也就是说，在专利文献1和专利文献2中，在不另外使用诸如液体润滑剂的润滑剂的条件(干式润滑)下不能提供低摩擦化。

人们要求在不使用任何其它润滑剂的情况下降低滑动面(滑动部)的摩擦系数。另外，期望在滑动面中稳定地产生低摩擦系数的状态。

因此，本发明的目的在于提供制造稳定地提供低摩擦系数的低摩擦覆膜的低摩擦覆膜的制造方法、和能够稳定地实现在低摩擦系数的状态下滑动的滑动方法。

解决问题的手段

本发明的第一方式提供低摩擦覆膜(5)的制造方法，其包括：将空间(10)中的气氛置换为含有含羟基化合物和氢气与氮气中的至少一者的气氛的置换步骤，其中在所述空间(10)中配置有由金属或陶瓷形成的滑动面(6)、包含非晶态碳基膜(9)且配置在空间(10)中的被滑动面(7)；和在已将含有含羟基化合物和氢气与氮气中的至少一者的气氛设置在所述空间中的状态下，使滑动面因1.0GPa以上的赫兹接触应力而与所述被滑动面接触而相对滑动的滑动步骤；其中：通过所述滑动步骤在所述滑动面上形成所述低摩擦覆膜。

顺便说明的是，括号中的数字等表示后述实施方式中的相应组成元素等。毫无疑问，这并不意味着本发明应该限于这些实施方式。同样的情形可以适用于以下方式。

本发明的第二方式提供根据第一方式的低摩擦覆膜的制造方法，其中所述含羟基化合物包含烃类物质。

本发明的第三方式提供根据第二方式的低摩擦覆膜的制造方法，其中所述烃类物质包含醇。

本发明的第四方式提供根据第三方式的低摩擦覆膜的制造方法，其中所述醇包含甲醇(CH₃OH)。