[发明专利]低摩擦覆膜的制造方法和滑动方法

权利要求书

1.一种低摩擦覆膜的制造方法，其包括：

将空间中的气氛置换为含有含羟基化合物和氢气与氮气中的至少一者的气氛的置换步骤，其中在所述空间中配置有由金属或陶瓷形成的滑动面和包含非晶态碳基膜的被滑动面；和

在已将含有含羟基化合物和氢气与氮气中的至少一者的气氛设置在所述空间中的状态下，使所述滑动面因1.0GPa以上的赫兹接触应力而与所述被滑动面接触而相对滑动的滑动步骤，其中通过所述滑动步骤在所述滑动面上形成所述低摩擦覆膜。

2.根据权利要求1所述的低摩擦覆膜的制造方法，其中，

所述气氛还包含烃类物质。

3.根据权利要求2所述的低摩擦覆膜的制造方法，其中，

所述含羟基化合物和所述烃类物质包含醇。

4.根据权利要求3所述的低摩擦覆膜的制造方法，其中，

所述醇包含甲醇。

5.根据权利要求4所述的低摩擦覆膜的制造方法，

其中所述含羟基化合物还包含水，并且

其中所述气氛包含从其中液态甲醇对液态甲醇和液态水的体积％浓度为6％至15％的水溶液产生的气态甲醇和气态水蒸气。

6.根据权利要求3所述的低摩擦覆膜的制造方法，其中，

所述醇包含乙醇。

7.根据权利要求6所述的低摩擦覆膜的制造方法，

其中所述含羟基化合物还包含水，并且

其中所述气氛包含从其中液态乙醇对液态乙醇和液态水的体积％浓度为6％至30％的水溶液产生的气态乙醇和气态水蒸气。

8.根据权利要求7所述的低摩擦覆膜的制造方法，其中，

所述气氛包含从其中所述液态乙醇对所述液态乙醇和所述液态水的体积％浓度为15％至25％的水溶液产生的气态乙醇和气态水蒸气。

9.根据权利要求3所述的低摩擦覆膜的制造方法，其中，

所述醇包含1-丙醇。

10.根据权利要求3所述的低摩擦覆膜的制造方法，其中，

所述醇包含2-丙醇。

11.根据权利要求3、4、6、9和10中任一项所述的低摩擦覆膜的制造方法，其中

所述含羟基化合物为从含有100％比率的所述醇的溶液产生的气态醇。

12.根据权利要求1至10中任一项所述的低摩擦覆膜的制造方法，其中，

所述含羟基化合物包含水。

13.根据权利要求1至10中任一项所述的低摩擦覆膜的制造方法，其中，

所述赫兹接触应力为1.3GPa至2.4GPa。

14.根据权利要求11所述的低摩擦覆膜的制造方法，其中，

所述赫兹接触应力为1.3GPa至2.4GPa。

15.根据权利要求12所述的低摩擦覆膜的制造方法，其中，

所述赫兹接触应力为1.3GPa至2.4GPa。

16.根据权利要求1至10、14和15中任一项所述的低摩擦覆膜的制造方法，其中，

所述非晶态碳基膜包含短链聚炔烃类分子作为主要成分。

17.根据权利要求11所述的低摩擦覆膜的制造方法，其中，

所述非晶态碳基膜包含短链聚炔烃类分子作为主要成分。

18.根据权利要求12所述的低摩擦覆膜的制造方法，其中，

所述非晶态碳基膜包含短链聚炔烃类分子作为主要成分。