[实用新型]金属有机化学气相沉积设备反应腔体结构有效
申请号: | 201620256260.X | 申请日: | 2016-03-30 |
公开(公告)号: | CN205662597U | 公开(公告)日: | 2016-10-26 |
发明(设计)人: | 邓耀华;傅雅琦;陈嘉源;吴黎明;张巧芬 | 申请(专利权)人: | 广东工业大学 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/455;C23C16/34 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 林丽明 |
地址: | 510006 广东省广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种金属有机化学气相沉积设备反应腔体结构,包括用于外延片生长的衬底承载盘(1)、进气装置(2)、出气装置(3),衬底承载盘(1)存放在壳体(4)所设的密封腔体内,衬底承载盘(1)通过支撑杆直立支撑,进气装置(2)装设在密封腔体顶部,出气装置(3)装设密封腔体底部。本实用新型可提高单炉产量,降低反应能耗从而降低生产成本,保证淀积的均匀性,实时监测腔体环境参数,提高反应效率。 | ||
搜索关键词: | 金属 有机化学 沉积 设备 反应 结构 | ||
【主权项】:
一种金属有机化学气相沉积设备反应腔体结构一种金属有机化学气相沉积设备,其特征在于包括用于外延片生长的衬底承载盘(1)、进气装置(2)、出气装置(3),衬底承载盘(1)存放在壳体(4)所设的密封腔体内,衬底承载盘(1)通过支撑杆直立支撑,进气装置(2)装设在密封腔体顶部,出气装置(3)装设密封腔体底部。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的