[实用新型]用于电子束热蒸发系统的防溅射外罩有效

专利信息
申请号: 201620228111.2 申请日: 2016-03-23
公开(公告)号: CN205387591U 公开(公告)日: 2016-07-20
发明(设计)人: 乔唐 申请(专利权)人: 苏州新材料研究所有限公司
主分类号: C23C14/30 分类号: C23C14/30
代理公司: 苏州睿昊知识产权代理事务所(普通合伙) 32277 代理人: 伍见
地址: 215021 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了用于电子束热蒸发系统的防溅射外罩,其包括:外罩支撑体、导流环、导流腔和导流通道,外罩支撑体与坩埚接触且受坩埚的顶端边缘支撑;所述导流环设置在所述外罩支撑体的内圆上,导流环顶部端面为斜面,在所述斜面上设有若干导流气孔;所述导流腔为漏斗形结构,融化状态的蒸镀材料流入导流腔;导流通道顶部端面设有第一圆孔,第一圆孔与导流腔贯通,导流通道的侧壁上设有五个斜方向圆孔,融化的蒸镀材料液滴由第一圆孔滴入,顺着斜方向圆孔滴入至所述坩埚中,最终滴落至所述坩埚底部。本实用新型的防溅射外罩,结构简单,设计合理,能够有效的防止液滴溅射,避免溅射的颗粒对镀膜造成损坏,提高了镀膜品质。
搜索关键词: 用于 电子束 蒸发 系统 溅射 外罩
【主权项】:
用于电子束热蒸发系统的防溅射外罩,其特征在于,其包括:外罩支撑体,所述外罩支撑体与坩埚接触且受所述坩埚的顶端边缘支撑,所述外罩支撑体为圆环形结构;导流环,所述导流环设置在所述外罩支撑体的内圆上,所述导流环顶部端面为斜面,在所述斜面上设有若干导流气孔,所述坩埚内部的蒸汽通过所述导流气孔;导流腔,所述导流腔为漏斗形结构,所述导流腔的上部边缘连接至所述导流环的下部边缘,融化状态的蒸镀材料流入所述导流腔;导流通道,所述导流通道为圆柱体,所述导流通道的上端连接至所述导流腔的底部,所述导流通道深入至所述坩埚中,所述导流通道顶部端面设有第一圆孔,所述第一圆孔与所述导流腔贯通,所述导流通道的侧壁上设有五个斜方向圆孔,融化的蒸镀材料液滴由所述第一圆孔滴入,顺着所述斜方向圆孔滴入至所述坩埚中,最终滴落至所述坩埚底部。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州新材料研究所有限公司,未经苏州新材料研究所有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201620228111.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top