[发明专利]一种基于铟砷锑(InAsSb)材料的双色红外探测器的制备方法有效

专利信息
申请号: 201611252668.0 申请日: 2016-12-30
公开(公告)号: CN106711249B 公开(公告)日: 2018-04-03
发明(设计)人: 郝瑞亭;任洋;郭杰;刘思佳;赵其琛;王书荣;常发冉;刘欣星 申请(专利权)人: 云南师范大学
主分类号: H01L31/0304 分类号: H01L31/0304;H01L31/0352;H01L31/101;H01L31/11;H01L31/18;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 650500 云南省昆明市呈*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 发明公开了一种基于InAsSb材料的短波/中波双色红外探测器材料,其结构包括GaSb衬底、沉积于GaSb衬底上的外延结构、钝化层、金属电极,所述外延结构从下至上依次为Be掺杂的GaSb缓冲层、p型InAs/InAsSb超晶格接触层、未掺杂的InAs/InAsSb超晶格中波吸收层、n型InAs/InAsSb超晶格接触层、第一n型InAsSb接触层、AlAsSb电子势垒层、非掺杂InAsSb短波红外吸收层、第二n型InAsSb接触层和盖层。该探测器具有PIN型InAs/InAsSb超晶格与NBN型InAsSb异质结构,该结构具有高探测率、低暗电流、长的少数载流子寿命等优点,这样的结构可提高探测器的性能。
搜索关键词: 一种 基于 铟砷锑 inassb 材料 红外探测器 制备 方法
【主权项】:
一种基于InAsSb材料的短波/中波双色红外探测器,包括GaSb衬底、沉积于GaSb衬底上的外延结构、钝化层、金属电极,其特征在于,所述外延结构从下至上依次为Be掺杂的GaSb缓冲层、p型InAs/InAsSb超晶格接触层、未掺杂的InAs/InAsSb超晶格中波吸收层、n型InAs/InAsSb超晶格接触层、第一n型InAsSb接触层、AlAsSb电子势垒层、非掺杂InAsSb短波红外吸收层、第二n型InAsSb接触层,外延结构的两侧经刻蚀形成台阶,台阶的深度分别至Be掺杂GaSb缓冲层和n型InAs/InAsSb超晶格接触层,电极包括金属下电极、金属中电极和金属上电极,金属下电极与Be掺杂GaSb缓冲层欧姆接触,金属中电极与n型InAs/InAsSb超晶格接触层欧姆接触,金属上电极形成于台阶的上方,与第二n型InAsSb接触层欧姆接触。
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