[发明专利]一种基于铟砷锑(InAsSb)材料的双色红外探测器的制备方法有效
申请号: | 201611252668.0 | 申请日: | 2016-12-30 |
公开(公告)号: | CN106711249B | 公开(公告)日: | 2018-04-03 |
发明(设计)人: | 郝瑞亭;任洋;郭杰;刘思佳;赵其琛;王书荣;常发冉;刘欣星 | 申请(专利权)人: | 云南师范大学 |
主分类号: | H01L31/0304 | 分类号: | H01L31/0304;H01L31/0352;H01L31/101;H01L31/11;H01L31/18;B82Y30/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 650500 云南省昆明市呈*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于InAsSb材料的短波/中波双色红外探测器材料,其结构包括GaSb衬底、沉积于GaSb衬底上的外延结构、钝化层、金属电极,所述外延结构从下至上依次为Be掺杂的GaSb缓冲层、p型InAs/InAsSb超晶格接触层、未掺杂的InAs/InAsSb超晶格中波吸收层、n型InAs/InAsSb超晶格接触层、第一n型InAsSb接触层、AlAsSb电子势垒层、非掺杂InAsSb短波红外吸收层、第二n型InAsSb接触层和盖层。该探测器具有PIN型InAs/InAsSb超晶格与NBN型InAsSb异质结构,该结构具有高探测率、低暗电流、长的少数载流子寿命等优点,这样的结构可提高探测器的性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 铟砷锑 inassb 材料 红外探测器 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种基于InAsSb材料的短波/中波双色红外探测器,包括GaSb衬底、沉积于GaSb衬底上的外延结构、钝化层、金属电极,其特征在于,所述外延结构从下至上依次为Be掺杂的GaSb缓冲层、p型InAs/InAsSb超晶格接触层、未掺杂的InAs/InAsSb超晶格中波吸收层、n型InAs/InAsSb超晶格接触层、第一n型InAsSb接触层、AlAsSb电子势垒层、非掺杂InAsSb短波红外吸收层、第二n型InAsSb接触层,外延结构的两侧经刻蚀形成台阶,台阶的深度分别至Be掺杂GaSb缓冲层和n型InAs/InAsSb超晶格接触层,电极包括金属下电极、金属中电极和金属上电极,金属下电极与Be掺杂GaSb缓冲层欧姆接触,金属中电极与n型InAs/InAsSb超晶格接触层欧姆接触,金属上电极形成于台阶的上方,与第二n型InAsSb接触层欧姆接触。
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H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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