[发明专利]化学气相沉积设备

摘要

本发明公开的化学气相沉积设备包括进气装置，所述进气装置包括：第一反应气体出气口，其用于向所述待处理衬底输送第一反应气体，和第二反应气体出气口用于向所述待处理衬底输送第二反应气体；隔离装置分布在第一反应气体出气口周围，隔离装置使得第一反应气体与第二反应气体的混合反应在空间上实现局域化；两种气体出气口与分布在第一反应气体出气口周围的隔离装置一起组成最小周期结构单元，本设备包括一个周期结构单元或一个以上周期结构单元；驱动装置，其用于驱动所述待处理衬底或者驱动进气装置。本发明通过隔离装置设计将两种反应气体的混合反应在空间上实现局域化，通过进气装置与衬底载具之间的相对运动，对衬底进行沉积处理。

主权项

1.一种化学气相沉积设备，其包括：进气装置，含第一反应气体出气口和第二反应气体出气口，第一反应气体出气口用于向待处理衬底输送第一反应气体；第二反应气体出气口用于向待处理衬底输送第二反应气体；隔离装置，分布在所述第一反应气体出气口周围，隔离装置使得第一反应气体与第二反应气体的混合反应在空间上实现局域化；第一反应气体出气口和第二反应气体出气口与分布在第一反应气体出气口周围的隔离装置一起组成最小的周期结构单元，所述化学气相沉积设备包括一个周期结构单元或一个以上周期结构单元；所述隔离装置为分布在第一种反应气体出气口周围的抽气槽，所述抽气槽与抽气管道连接；待处理衬底载具，用于装载待处理衬底；驱动装置，用于驱动化学气相沉积设备的周期结构单元或者待处理衬底载具，或者驱动化学气相沉积设备的周期结构单元和待处理衬底载具。