[发明专利]金及其合金表面透明类金刚石纳米薄膜及其制备方法有效
申请号: | 201611122027.3 | 申请日: | 2016-12-08 |
公开(公告)号: | CN106637128B | 公开(公告)日: | 2019-05-14 |
发明(设计)人: | 彭继华;苏东艺 | 申请(专利权)人: | 华南理工大学;广州今泰科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C14/35;C23C14/08;C23C16/503;C23C16/505;C23C28/04 |
代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 罗观祥 |
地址: | 510640 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了金及其合金表面透明类金刚石纳米薄膜及其制备方法。该制备方法去先在金及其合金表面预处理,然后采用离子源轰击清洗样品表面;再制备氧化物过渡镀层及其厚度控制;同时开启离子源和磁控溅射源,所述磁控溅射靶为含有金溶解元素和能形成碳化物的元素的磁控溅射合金靶,且其中金溶解元素的原子百分含量为10‑30at%;采用膜厚监控仪在线监控涂层厚度,控制该合金涂层的厚度1‑2纳米;最后制备高透明度类金刚石涂层。本发明制备的其合金表面耐腐蚀抗变色处理用类金刚石涂层具有高附着力、高透明度、抗刮划特性。 | ||
搜索关键词: | 制备 合金表面 类金刚石涂层 高透明度 类金刚石 纳米薄膜 离子源 溶解 预处理 磁控溅射靶 磁控溅射源 膜厚监控仪 制备氧化物 磁控溅射 高附着力 合金涂层 厚度控制 样品表面 在线监控 透明 合金靶 抗变色 耐腐蚀 碳化物 镀层 抗刮 轰击 清洗 | ||
【主权项】:
1.一种金及其合金表面透明类金刚石纳米薄膜的制备方法,其特征在于包括以下步骤:1)金及其合金表面预处理,去除表面污染物;2)将预处理后的金及其合金固定在工件托架上,采用离子源轰击清洗样品表面;3)制备氧化物过渡镀层及其厚度控制:同时开启离子源和磁控溅射源,所用的磁控溅射靶为含有金溶解元素和能形成碳化物的元素的磁控溅射合金靶,且其中金溶解元素的原子百分含量为10‑30at%;采用膜厚监控仪在线监控氧化物过渡镀层厚度,控制该氧化物过渡镀层的厚度1‑2纳米;所述金溶解元素为铝或镍;4)制备高透明度类金刚石涂层;通入氩气和碳氢化合物的混合气体,维持真空室总压强为0.3‑1.0Pa,开启离子源沉积类金刚石涂层;工件偏压控制为300‑600V;采用膜厚监控仪在线监控DLC涂层厚度控制该DLC涂层的厚度3‑10纳米。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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