[发明专利]一种双向ESD防护二极管的DFN封装结构及制造方法在审

专利信息
申请号: 201611097226.3 申请日: 2016-12-02
公开(公告)号: CN106409786A 公开(公告)日: 2017-02-15
发明(设计)人: 薛维平 申请(专利权)人: 上海芯石微电子有限公司
主分类号: H01L23/31 分类号: H01L23/31;H01L23/495;H01L21/56
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201605 上海市松*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 常规双向ESD防护二极管的芯片电极一个从正面引出,一个从背面引出,DFN封装时,芯片背面和框架用银胶连接,正面打金属线连接,常规结构的局限性是芯片尺寸要小于框架尺寸,芯片需要减薄至150微米以下,且背面需要金属化,此发明所使用的双向ESD防护二极管的芯片,其两个电极可以都从正面引出,两个电极都通过银胶和框架连接,芯片只需要使用单晶片制造,不再用外延片,降低成本;芯片厚度只需做到200微米,降低碎片率;背面无需金属化,减少工艺;芯片尺寸可以是原来的1.5‑2倍,给超低电容芯片、更强抗浪涌能力芯片提供了更多的设计空间。
搜索关键词: 一种 双向 esd 防护 二极管 dfn 封装 结构 制造 方法
【主权项】:
一种双向ESD防护二极管的DFN封装结构,其结构包括:DFN封装体(101)的框架(105)上连接银胶(104),银胶连接芯片电极(103),两个芯片电极都是从芯片(102)正面引出,芯片厚度小于200微米。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海芯石微电子有限公司,未经上海芯石微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201611097226.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top