[发明专利]一种柔性薄膜底栅双沟道晶体管有效
申请号: | 201611059419.X | 申请日: | 2016-11-23 |
公开(公告)号: | CN106449764B | 公开(公告)日: | 2023-07-18 |
发明(设计)人: | 秦国轩;黄治塬;靳萌萌;刘昊;王亚楠;党孟娇 | 申请(专利权)人: | 天津大学 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L29/06;H01L29/10 |
代理公司: | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人: | 杜文茹 |
地址: | 300072*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: |
一种柔性薄膜底栅双沟道晶体管,包括衬底,所述的衬底为柔性衬底,所述衬底上依次设置有ITO导电层和S |
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搜索关键词: | 一种 柔性 薄膜 底栅双 沟道 晶体管 | ||
【主权项】:
一种柔性薄膜底栅双沟道晶体管,包括衬底(1),其特征在于,所述的衬底(1)为柔性衬底,所述衬底(1)上依次设置有ITO导电层(2)和SiO氧化层(3),所述SiO氧化层(3)上设置有单晶硅薄膜、第一源极(10)、第二源极(11)、漏极(12)和栅极(13),其中,所述单晶硅薄膜通过金属互联线(14)分别连接第一源极(10)、第二源极(11)和漏极(12),所述栅极(13)通过金属互联线(14)连接导电柱(9)的一端,所述导电柱(9)的另一端依次插入所述的SiO氧化层(3)和ITO导电层(2)至衬底(1)上,从而使所述的栅极(13)通过金属互联线(14)和导电柱(9)连接ITO导电层(2)。
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