[发明专利]半导体器件、显示装置和上述装置的制造方法在审

专利信息
申请号: 201611042379.8 申请日: 2016-11-23
公开(公告)号: CN107170747A 公开(公告)日: 2017-09-15
发明(设计)人: 大原宏树 申请(专利权)人: 株式会社日本显示器
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司11322 代理人: 邸万杰
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种显示优良的电特性的半导体器件和该半导体器件的制造方法。另外,提供具有该半导体器件的显示装置和该显示装置的制造方法。该半导体器件包括具有氧化物半导体膜的第1晶体管、和包括第1晶体管上的层间膜、和位于层间膜上、含硅的半导体膜的第2晶体管。层间膜能够包含无机绝缘体。含硅的半导体膜能够包含多晶硅。层间膜能够包含无机绝缘体。
搜索关键词: 半导体器件 显示装置 上述 装置 制造 方法
【主权项】:
一种半导体器件,其特征在于,包括:基板;位于所述基板上,具有氧化物半导体膜的第1晶体管;所述第1晶体管上的层间膜;和位于所述层间膜上,具有含硅的半导体膜的第2晶体管。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日本显示器,未经株式会社日本显示器许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201611042379.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top