[发明专利]一种AlInGaN基多量子阱发光二极管的外延结构在审

专利信息
申请号: 201611036779.8 申请日: 2016-11-23
公开(公告)号: CN106784208A 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 莫春兰;全知觉;江风益;陶喜霞;刘军林;王光绪 申请(专利权)人: 南昌大学;南昌黄绿照明有限公司
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06;H01L33/32
代理公司: 江西省专利事务所36100 代理人: 张文
地址: 330047 *** 国省代码: 江西;36
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摘要: 发明公开了一种AlInGaN基多量子阱发光二极管的外延结构,包含一个材料生长衬底;层叠于所述衬底上的GaN基半导体叠层,该半导体叠层至少包含一层N型AlInGaN基半导体层、一层P型AlInGaN基半导体层和夹于N、P层之间的多量子阱发光有源层;特征是在多量子阱发光有源层中,第n量子阱前的量子垒或第n‑1量子阱前的量子垒或第n、n‑1量子阱前的量子垒的禁带宽度大于其它量子垒的禁带宽度。本发明提高了电子注入主要发光阱的势垒,同时也提高了空穴溢出主要发光阱的势垒;可提高主要发光阱中的电子空穴匹配度,减少电子泄露,改善效率骤降效应,从而提高LED的量子效率。
搜索关键词: 一种 alingan 基多 量子 发光二极管 外延 结构
【主权项】:
一种AlInGaN基多量子阱发光二极管的外延结构,包含:一个用于材料生长的衬底;在该衬底上层叠有AlInGaN基半导体叠层,该AlInGaN基半导体叠层至少包含一层N型AlInGaN半导体层、一层P型AlInGaN半导体层和夹于N型AlInGaN半导体层、P型AlInGaN半导体层之间的AlInGaN多量子阱发光有源层,其特征在于:在多量子阱发光有源层中,第n量子阱前的量子垒或第n‑1量子阱前的量子垒或第n、n‑1量子阱前的量子垒的禁带宽度大于其它量子垒的禁带宽度。
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