[发明专利]含化学气相共沉积硼化锆/铪-硼化钽的复合涂层及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201611034977.0 申请日: 2016-11-23
公开(公告)号: CN106699233B 公开(公告)日: 2020-08-25
发明(设计)人: 李国栋;张军;张磊;孙晔华;陈鑫;杨娟;刘阳 申请(专利权)人: 中南大学
主分类号: C04B41/87 分类号: C04B41/87;C04B41/89
代理公司: 长沙市融智专利事务所(普通合伙) 43114 代理人: 颜勇
地址: 410083 湖南*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明提供了两种含化学气相共沉积硼化锆/铪‑硼化钽的复合涂层及其制备方法。本发明是采用化学气相沉积(CVD)方法制备了含有ZrB2‑TaB2固溶体的共沉积复合涂层(Zr(Ta)B4),另一种含有HfB2‑TaB2固溶体的共沉积复合涂层(Hf(Ta)B4),这两种共沉积复合涂层比单一CVD ZrB2涂层或CVD HfB2具有更高的抗氧化和抗烧蚀性能。如具有Zr(Ta)B4复合涂层的C/C复合材料在氧‑乙炔中烧蚀60s后,其线烧蚀率由‑11.8×10‑4mm/s变为6.1×10‑5mm/s,质量烧蚀率由1.08×10‑3g/s变为4.2×10‑5g/s。其具有优异的抗烧蚀性能,可作为石墨、碳基、陶瓷基复合材料的高温保护涂层。
搜索关键词: 化学 气相共 沉积 硼化锆 硼化钽 复合 涂层 及其 制备 方法
【主权项】:
含化学气相共沉积硼化锆/铪‑硼化钽的复合涂层,其特征在于:所述涂层为硼化锆/铪‑硼化钽涂层或含有硼化锆/铪‑硼化钽的多层涂层;所述涂层为高温陶瓷涂层。
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