[发明专利]电感的形成方法及电感有效

专利信息
申请号: 201610884648.9 申请日: 2016-10-10
公开(公告)号: CN106340508B 公开(公告)日: 2019-12-24
发明(设计)人: 黎坡 申请(专利权)人: 上海华虹宏力半导体制造有限公司
主分类号: H01L23/64 分类号: H01L23/64
代理公司: 31237 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人: 屈蘅
地址: 201203 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种电感的形成方法及电感,电感的形成方法包括:提供衬底,所述衬底中具有第一金属层;在所述衬底中形成第一沟槽和第二沟槽,所述第二沟槽与所述第一金属层连通;在在所述第一沟槽和所述第二沟槽内填充导电材料;在所述衬底上形成第二金属层,刻蚀所述第二金属层形成电感线圈。在本发明提供的电感的形成方法及电感中,通过在衬底中形成的第一沟槽和第二沟槽,当在第一沟槽上形成第二金属层时,第二金属层会在第一沟槽处的上表面形成凹陷,从而通过第二沟槽增加了电感线圈的表面积,因此,本发明通过增加线圈表面积提高了电感的性能。
搜索关键词: 电感 形成 方法
【主权项】:
1.一种电感的形成方法,其特征在于,包括如下步骤,/nS10:提供衬底,所述衬底中具有第一金属层;/nS20:在所述衬底中形成第一沟槽和第二沟槽,所述第二沟槽与所述第一金属层连通,所述第一沟槽的宽度是第二沟槽的宽度的1.5~15倍;/nS30:在所述第一沟槽和所述第二沟槽内填充导电材料,所述导电材料填满所述第二沟槽,但未填满所述第一沟槽;/nS40:在所述衬底上形成第二金属层,刻蚀所述第二金属层形成电感线圈,所述电感线圈中的第二金属层在所述第一沟槽处的上表面形成凹陷,且所述第二金属层填充在所述第一沟槽中的部分形成为凸向所述第一沟槽的底面的凸起。/n
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