[发明专利]用于光刻的罩面层组合物和方法有效
| 申请号： | 201610851432.2 | 申请日： | 2016-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN106556972B | 公开（公告）日： | 2021-07-27 |
| 发明（设计）人： | 洪昌英;E-H·柳;M-K·张;D-Y·金 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料韩国有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;G03F7/00;G03F7/004 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋;胡嘉倩 |
| 地址： | 韩国忠*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供适合施用在光致抗蚀剂组合物上的面涂层组合物。优选面涂层组合物包含第一聚合物，其包含有包含与聚合物主链间隔开的反应性含氮部分的第一单元，其中所述含氮部分在光致抗蚀剂组合物的光刻处理期间产生碱性裂解产物。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 面层 组合 方法 | ||
【主权项】：
一种适用于在光致抗蚀剂层上形成层的组合物，所述组合物包含：(a)第一聚合物，其包含：第一单元，其包含由所述聚合物主链间隔开的反应性含氮部分，其中所述含氮部分在所述光致抗蚀剂组合物的光刻处理期间产生碱性裂解产物；(b)在所述光致抗蚀剂层上涂布光致抗蚀剂外涂层组合物，其中所述外涂层组合物包含碱性抑止剂、聚合物和有机溶剂。
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