[发明专利]一种过孔的制作方法及显示基板的制作方法

摘要

本发明公开一种过孔的制作方法及显示基板的制作方法，涉及显示技术领域，解决了因过孔的坡度角较大而导致显示基板的良率较低的问题。所述过孔的制作方法包括：在待制作过孔的薄膜上形成光刻胶；对光刻胶进行n次曝光，形成曝光区，曝光区与过孔对应，其中，各次对光刻胶进行曝光，光刻胶的曝光厚度之和等于光刻胶的初始厚度，且第i次曝光时采用的光的波长小于第i‑1次曝光时采用的光的波长，n≥2，2≤i≤n；对薄膜中与曝光区对应的区域进行刻蚀，形成过孔。本发明提供的过孔的制作方法用于制作过孔。

主权项

1.一种过孔的制作方法，其特征在于，包括：在待制作过孔的薄膜上形成光刻胶；对所述光刻胶进行n次曝光，形成曝光区，所述曝光区与所述过孔对应，其中，各次对所述光刻胶进行曝光，所述光刻胶的曝光厚度之和等于所述光刻胶的初始厚度，且第i次曝光时采用的光的波长小于第i‑1次曝光时采用的光的波长，n≥2，2≤i≤n；对所述薄膜中与所述曝光区对应的区域进行刻蚀，形成所述过孔。