[发明专利]像素界定层的制作方法与OLED器件的制作方法

摘要

本发明提供一种像素界定层的制作方法与OLED器件的制作方法。本发明的像素界定层的制作方法，采用纳米压印技术形成具有双层结构的像素界定层，工艺简单，制作成本低，所制作的像素界定层能够界定出像素区域，从而便于采用喷墨打印工艺制作OLED器件，在低成本的新型OLED显示器领域具有很好的应用前景。本发明的OLED器件的制作方法，采用上述像素界定层的制作方法得到像素界定层，然后通过喷墨打印的方式形成有机功能层，工艺简单，制作成本低。

主权项

一种像素界定层的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1、提供一TFT基板(10)，在所述TFT基板(10)上涂覆一层聚合物材料，得到界定层薄膜(20’)；步骤2、提供压印模板(90)，将压印模板(90)置于所述界定层薄膜(20’)上方，采用纳米压印工艺，在所述界定层薄膜(20’)上形成第一台阶层(21)、及所述第一台阶层(21)上的第二台阶层(22)，其中，所述第一台阶层(21)定义出数个像素开口区，所述第二台阶层(22)与所述第一台阶层(21)共同定义出数个上宽下窄的像素区域；步骤3、采用等离子体对所述界定层薄膜(20’)进行刻蚀，减薄所述界定层薄膜(20’)，去除对应所述像素开口区内的界定层薄膜(20’)，得到包括第一台阶层(21)、和第二台阶层(22)的像素界定层(20)。