[发明专利]掩膜板及其制作方法、掩膜组件有效
| 申请号： | 201610617389.3 | 申请日： | 2016-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN106086785B | 公开（公告）日： | 2019-02-01 |
| 发明（设计）人： | 林治明;王震 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 | 代理人： | 林祥 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种掩膜板及其制作方法、掩膜组件，该掩膜板包括至少一个掩膜单元，所述掩膜单元包括蒸镀有效区以及位于所述蒸镀有效区与所述掩膜板第一边沿之间的边缘区域，所述边缘区域上设置有弯曲缓解结构，所述弯曲缓解结构用于当所述掩膜板按照所述第一边沿的延伸方向被拉伸时缓解所述蒸镀有效区的边缘卷曲。本发明提供的掩膜板，通过在掩膜板上设置弯曲缓解结构，当该掩膜板焊接在框架上被拉伸时，通过弯曲缓解结构可以有效缓解掩膜板上蒸镀有效区的边缘卷曲，避免在蒸镀过程中在蒸镀的产品的对应位置上产生不良。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜板 及其 制作方法 组件 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜板，包括至少一个掩膜单元，所述掩膜单元包括蒸镀有效区以及位于所述蒸镀有效区与所述掩膜板第一边沿之间的边缘区域，其特征在于，所述边缘区域上设置有弯曲缓解结构，所述弯曲缓解结构用于当所述掩膜板按照所述第一边沿的延伸方向被拉伸时缓解所述蒸镀有效区的边缘卷曲；所述掩膜板包括多个掩膜单元，所述多个掩膜单元按照所述第一边沿的延伸方向排列。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，未经京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610617389.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
