[发明专利]非晶硅薄膜太阳能电池及其制造方法有效
申请号: | 201610601867.1 | 申请日: | 2016-07-28 |
公开(公告)号: | CN106024919B | 公开(公告)日: | 2017-11-03 |
发明(设计)人: | 刘坤;姚文浩;邓文宇;陈树雷;王东阳;巴德纯 | 申请(专利权)人: | 东北大学 |
主分类号: | H01L31/0216 | 分类号: | H01L31/0216;H01L31/0236;H01L31/0376 |
代理公司: | 沈阳东大知识产权代理有限公司21109 | 代理人: | 赵嬛嬛 |
地址: | 110819 辽宁*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 一种非晶硅薄膜太阳能电池及其制造方法,所述非晶硅薄膜太阳能电池由依次连接的柔性PET基片层、SiO2陷光层、第一电极TCO层、p型非晶硅层、p型缓冲层、i型非晶硅层、n型非晶硅层、第二电极TCO层和背反射层组成。制备方法包括提供柔性PET基片层;在柔性PET基片层上依次沉积SiO2陷光层、第一电极TCO层、p型非晶硅层、p型缓冲层、i型非晶硅层、n型非晶硅层、第二电极TCO层和背反射层。本发明的非晶硅薄膜太阳能电池的光电转换效率达到10~14%,较现有的单节非晶硅薄膜太阳能电池的光电转换效率提高了3~8%,并有效防止本征层i型非晶硅层和n型非晶硅层受到污染,适于大批量生产。 | ||
搜索关键词: | 非晶硅 薄膜 太阳能电池 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种非晶硅薄膜太阳能电池,其特征在于由依次连接的柔性PET基片层、SiO2陷光层、第一电极TCO层、p型非晶硅层、p型缓冲层、i型非晶硅层、n型非晶硅层、第二电极TCO层和背反射层组成,其中所述柔性PET基片层厚度为0.001~0.125mm,所述SiO2陷光层厚度为400~800nm,并且在沉积SiO2陷光层后对SiO2陷光层表面进行刻蚀粗糙化处理,保证刻蚀出的所有凹陷均匀一致,并且凹陷横向宽度为1~5um;所述p型缓冲层厚度为5~20nm。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的