[发明专利]非晶硅薄膜太阳能电池及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201610601867.1 申请日: 2016-07-28
公开(公告)号: CN106024919B 公开(公告)日: 2017-11-03
发明(设计)人: 刘坤;姚文浩;邓文宇;陈树雷;王东阳;巴德纯 申请(专利权)人: 东北大学
主分类号: H01L31/0216 分类号: H01L31/0216;H01L31/0236;H01L31/0376
代理公司: 沈阳东大知识产权代理有限公司21109 代理人: 赵嬛嬛
地址: 110819 辽宁*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 一种非晶硅薄膜太阳能电池及其制造方法,所述非晶硅薄膜太阳能电池由依次连接的柔性PET基片层、SiO2陷光层、第一电极TCO层、p型非晶硅层、p型缓冲层、i型非晶硅层、n型非晶硅层、第二电极TCO层和背反射层组成。制备方法包括提供柔性PET基片层;在柔性PET基片层上依次沉积SiO2陷光层、第一电极TCO层、p型非晶硅层、p型缓冲层、i型非晶硅层、n型非晶硅层、第二电极TCO层和背反射层。本发明的非晶硅薄膜太阳能电池的光电转换效率达到10~14%,较现有的单节非晶硅薄膜太阳能电池的光电转换效率提高了3~8%,并有效防止本征层i型非晶硅层和n型非晶硅层受到污染,适于大批量生产。
搜索关键词: 非晶硅 薄膜 太阳能电池 及其 制造 方法
【主权项】:
一种非晶硅薄膜太阳能电池,其特征在于由依次连接的柔性PET基片层、SiO2陷光层、第一电极TCO层、p型非晶硅层、p型缓冲层、i型非晶硅层、n型非晶硅层、第二电极TCO层和背反射层组成,其中所述柔性PET基片层厚度为0.001~0.125mm,所述SiO2陷光层厚度为400~800nm,并且在沉积SiO2陷光层后对SiO2陷光层表面进行刻蚀粗糙化处理,保证刻蚀出的所有凹陷均匀一致,并且凹陷横向宽度为1~5um;所述p型缓冲层厚度为5~20nm。
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