[发明专利]一种薄膜晶体管及其制作方法、显示基板及显示装置在审
| 申请号： | 201610591593.2 | 申请日： | 2016-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN106024907A | 公开（公告）日： | 2016-10-12 |
| 发明（设计）人： | 杨维 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/786 | 分类号： | H01L29/786;H01L29/06;H01L21/336;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司11243 | 代理人： | 许静;刘伟 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及显示技术领域，公开了一种薄膜晶体管及其制作方法、显示基板及显示装置。所述制作方法通过在源电极和漏电极与有源层之间形成导电离子阻挡层，能够有效阻挡源电极和漏电极的离子扩散至有源层中，提升薄膜晶体管的性能，从而提升显示产品的品质。而且导电离子阻挡层不会阻挡载流子的传输，保证薄膜晶体管正常工作。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 薄膜晶体管 及其 制作方法 显示 显示装置 | ||
【主权项】：
一种薄膜晶体管的制作方法，包括：形成非晶态有源层、源电极和漏电极，所述非晶态有源层包括与源电极接触的源区、与漏电极接触的漏区，以及位于源区和漏区之间的沟道区，其特征在于，所述制作方法还包括：在所述源电极与所述源区的非晶态有源层之间，以及所述漏电极与所述漏区的非晶态有源层之间形成导电离子阻挡层。
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