[发明专利]一种彩膜基板及其制作方法、显示装置有效
| 申请号: | 201610571061.2 | 申请日: | 2016-07-19 |
| 公开(公告)号: | CN105974650B | 公开(公告)日: | 2019-05-14 |
| 发明(设计)人: | 张思凯;汪栋 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 刘伟;皇甫韵啸 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明提供一种彩膜基板及其制作方法、显示装置。所述彩膜基板,包括形成在衬底基板上的黑矩阵图形,所述彩膜基板还包括:覆盖所述黑矩阵图形的绝缘图形,所述黑矩阵图形和所述绝缘图形限定出多个阵列排布的开口区域。所述方法,包括在衬底基板上形成多个黑矩阵图形,所述彩膜基板的制作方法还包括:形成覆盖所述黑矩阵图形的绝缘图形,所述黑矩阵图形和所述绝缘图形限定出多个阵列排布的开口区域。所述显示面板,包括本发明任意一项实施例所提供的彩膜基板。所述显示装置,其特征在于,包括本发明任意一项实施例所提供的显示面板。本发明能够减少彩膜基板搭接区的光刻胶产生感应电荷、导致异常发亮的现象。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 彩膜基板 及其 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】:
1.一种彩膜基板,包括形成在衬底基板上的黑矩阵图形,其特征在于,所述彩膜基板还包括:覆盖所述黑矩阵图形的绝缘图形,所述黑矩阵图形和所述绝缘图形限定出多个阵列排布的开口区域;所述开口区域包括第一开口区域、第二开口区域和第三开口区域,所述彩膜基板还包括:填充于所述第一开口区域中的第一色阻层;填充于所述第二开口区域中的第二色阻层;填充于所述第三开口区域中的第三色阻层;所述第一色阻层为红色色阻层,所述第二色阻层为蓝色色阻层和绿色色阻层中的一种;所述第三色阻层为蓝色色阻层和绿色色阻层中的另一种;其中,所述第一色阻层与所述绝缘图形采用相同材料。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610571061.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:显示面板及其制备方法、显示装置
- 下一篇:一种显示装置及显示方法





