[发明专利]一种一维硫化物半导体微晶的制备方法在审
申请号: | 201610541024.7 | 申请日: | 2016-07-11 |
公开(公告)号: | CN106145178A | 公开(公告)日: | 2016-11-23 |
发明(设计)人: | 刘玉峰;郑新峰;房永征;侯京山;张娜;赵国营 | 申请(专利权)人: | 上海应用技术学院 |
主分类号: | C01G3/00 | 分类号: | C01G3/00 |
代理公司: | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人: | 吴宝根 |
地址: | 200235 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供了一种一维硫化物半导体微晶的制备方法,先将反应物前驱体含硫化合物、氧化铜或可溶性铜盐、强碱、去离子水加入到反应釜中,所述强碱选自氢氧化钠、氢氧化钾或氢氧化铯中任意一种;在室温下搅拌至反应物溶解,然后将反应釜密封放入到180‑240℃的真空烘箱中加热反应1‑5天,最后离心、干燥即得ACu7S4半导体微晶材料;所述的ACu7S4半导体微晶光电材料用化学式为ACu7S4,其中,A选自Na,K,Cs中的一种。本发明的方法采用的原料来源广泛,使用过程中对环境无污染,制备工艺简单、重复性好、制备的产物化学性质稳定。 | ||
搜索关键词: | 一种 硫化物 半导体 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种一维硫化物半导体微晶的制备方法,其特征在于包括如下步骤:1)将反应物前驱体含硫化合物、氧化铜或可溶性铜盐、强碱、去离子水加入到反应釜中,所述强碱选自氢氧化钠、氢氧化钾或氢氧化铯中任意一种;含硫化合物、氧化铜或可溶性铜盐、强碱、去离子水的物料比为4‑30mmol:2‑20mmol:5‑35g:10‑30mL;2)在室温下搅拌5‑30min至反应物溶解,然后将反应釜密封放入到180‑240℃的真空烘箱中加热反应1‑5天,最后离心、干燥即得ACu7S4半导体微晶材料;所述的ACu7S4半导体微晶光电材料的化学式为ACu7S4,其中,A选自Na,K,Cs中的一种。
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