[发明专利]钨抛光料浆组合物

摘要

本发明涉及一种钨抛光料浆组合物，且本发明的钨抛光料浆组合物包括水溶性高分子、抛光粉及腐蚀调节剂。

主权项

1.一种用于包含钨膜以及氧化膜的被抛光膜的抛光料浆组合物，其包括：水溶性高分子；抛光粒子；蚀刻调节剂；以及氧化剂，其中，所述料浆组合物不包含硝酸，所述水溶性高分子包括从由聚苯乙烯磺酸、聚乙烯基磺酸、聚丙烯酰胺甲基丙磺酸、聚‑α‑甲基苯磺酸、聚‑ρ‑甲基苯磺酸及它们的盐形成的组中选择的至少任何一种，并且，所述水溶性高分子在所述抛光料浆组合物中为0.01重量百分比至5重量百分比，所述蚀刻调节剂是由以下数学式1定义的HPI值为70以下的化合物，或者由以下数学式2被定义的HBI值为30以上的化合物，所述蚀刻调节剂包括从由异戊酸、己酸、异丁酸、戊酸、丁酸、4‑氨基‑3‑羟基丁酸、二甲基丁二酸、甲基戊酸及2‑羟基‑4‑甲基戊酸形成的组中选择的至少任何一种，并且所述氧化剂在所述抛光料浆组合物中为0.005重量百分比至5重量百分比，所述抛光料浆组合物的pH具有2至5的范围，在利用所述抛光料浆组合物的钨抛光之后，表面的每分钟静态蚀刻速率值是以下，【数学式1】【数学式2】