[发明专利]一种在材料表面制备微纳米尺度周期性或非周期性结构的方法在审
申请号: | 201610475697.7 | 申请日: | 2016-06-27 |
公开(公告)号: | CN107546102A | 公开(公告)日: | 2018-01-05 |
发明(设计)人: | 黄翀 | 申请(专利权)人: | 长沙新材料产业研究院有限公司 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;H01L33/00;B81C1/00;G02B1/00 |
代理公司: | 长沙正奇专利事务所有限责任公司43113 | 代理人: | 郭立中,蒋尊龙 |
地址: | 410205 湖南省长沙市*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种在材料表面制备微纳米尺度周期性或非周期性结构的方法,特别是在金刚石表面制备周期性结构的方法,该方法包括以下步骤(1)在衬底上涂覆压印胶;使用压印技术将具有周期性或非周期性结构的模板压印至衬底上后脱模,使压印胶在衬底表面形成具有周期性的凸起;(2)脱模后在衬底上沉积金属层,使金属层仅沉积在所述凸起的表面;(3)等离子刻蚀;(4)将沉积的金属层及压印胶从衬底上剥离,得到表面具有周期性或非周期性结构的材料。本发明的制备工艺过程简单,一次成型;无污染、低耗能、低噪音、无污水排放、产品生命周期长。该方法具有普适性,普遍适用于各种不同微/纳米尺度的周期或非周期结构器件的制备。 | ||
搜索关键词: | 一种 材料 表面 制备 纳米 尺度 周期性 结构 方法 | ||
【主权项】:
一种在材料表面制备微纳米尺度周期性或非周期性结构的方法,其特征在于,包括以下步骤:(1) 在衬底上涂覆压印胶;使用压印技术将具有周期性或非周期性结构的模板压印至衬底上后脱模,使压印胶在衬底表面形成具有周期性或非周期性的凸起;(2) 在衬底上沉积金属层,使金属层仅沉积在所述凸起的表面;(3) 进行等离子刻蚀;(4) 将沉积的金属层及压印胶从衬底上剥离,得到表面具有周期性或非周期性结构的材料。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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