[发明专利]用SiC作为基片的大功率半导体封装构造及其方法在审
| 申请号： | 201610442110.2 | 申请日： | 2016-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN106098564A | 公开（公告）日： | 2016-11-09 |
| 发明（设计）人： | 余淼;杨平安;王丽蕊;浮洁 | 申请（专利权）人： | 重庆大学 |
| 主分类号： | H01L21/48 | 分类号： | H01L21/48;H01L23/373 |
| 代理公司： | 北京海虹嘉诚知识产权代理有限公司 11129 | 代理人： | 谢殿武 |
| 地址： | 400044 *** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用SiC作为基片的大功率半导体封装构造，包括基板和用SiC作为基片的芯片，所述芯片与基板之间设置有金属泡沫层；将金属泡沫层设置于芯片与基板之间，避免芯片与基板之间接触不紧密而造成接触间隙不利于芯片散热，利用金属泡沫层的弹性形变，使得金属泡沫层与芯片与基板充分接触，保证芯片的散热性能好，同时金属泡沫层能够避免因芯片受到压应力而产生微裂纹，保证芯片使用寿命长且性能稳定，并且整体结构简单，封装方便，大大提高工作效率；同时设置散热填料，形成泡沫金属为主要散热，而散热填料为次要散热的结构，保证形成流畅的散热流。 | ||
| 搜索关键词： | sic 作为 大功率 半导体 封装 构造 及其 方法 | ||
【主权项】：
一种用SiC作为基片的大功率半导体封装构造，其特征在于：包括基板和用SiC作为基片的芯片，所述芯片与基板之间设置有金属泡沫层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
