[发明专利]半导体元件及半导体元件的制造方法有效

专利信息
申请号: 201610423688.3 申请日: 2016-06-15
公开(公告)号: CN106328696B 公开(公告)日: 2021-06-18
发明(设计)人: 奥尔加·克雷姆帕斯卡;罗曼·卢普塔克;米夏尔·库博维奇 申请(专利权)人: 赛米控电子股份有限公司
主分类号: H01L29/70 分类号: H01L29/70;H01L29/73;H01L29/74;H01L29/861;H01L21/328;C23C16/44;H01L23/31;H01L21/56
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 戚传江;金洁
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种半导体元件,其包括MESA形的双极半导体芯片(1),其中将第一金属化层(4)布置在半导体芯片(1)的第一主表面(2)上且将第二金属化层(5)布置在半导体芯片(1)的第二主表面(3)上,所述第二主表面被布置为与半导体芯片(1)的第一主表面(2)相背,其中将氧化铝层(7)布置在半导体芯片(1)的边缘表面(6)上,所述边缘表面环绕半导体芯片(1)周围延伸并且连接第一和第二主表面(2,3)。此外,本发明涉及用于制造半导体元件(10)的方法。
搜索关键词: 半导体 元件 制造 方法
【主权项】:
一种半导体元件,包括MESA形的双极半导体芯片(1),其中将第一金属化层(4)布置在半导体芯片(1)的第一主表面(2)上且将第二金属化层(5)布置在所述半导体芯片(1)的第二主表面(3)上,所述第二主表面被布置为与所述半导体芯片(1)的第一主表面(2)相背,其中将氧化铝层(7)布置在所述半导体芯片(1)的边缘表面(6)上,所述边缘表面环绕所述半导体芯片(1)周围延伸并且连接所述第一主表面和所述第二主表面(2,3)。
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