[发明专利]一种可升降式硅片气体钝化处理装置

摘要

本发明提出一种可升降式硅片气体钝化处理装置，其包括支架，气缸，气体喷淋组件以及抽风装置，所述支架横跨硅片刻蚀机设置，所述支架的上横梁上固定设置有气缸固定板，气缸固定在气缸固定板上，气缸的活塞杆与气体喷淋组件固定板固定，升降导杆的一端与气体喷淋组件固定板固定，另一端与升降板固定，升降板设置于气缸固定板的上方，其上设置有多个缓冲器，气体喷淋组件至上横梁之间为密封空间，通过框架及与其安装固定的透明板构成，抽风装置设置于气体喷淋组件的下方，硅片传送滚轮设于两者之间。本发明的可升降式硅片气体钝化处理装置，通过气缸的升降来非常方便地调节气体喷淋组件距离硅片的高度来优化硅片表面处理的工艺条件；采用支架式设计，在硅片处理工艺产线改造和调整时，也易于操作和调整。

主权项

一种可升降式硅片气体钝化处理装置，其特征在于，所述处理装置包括支架，气缸，气体喷淋组件以及抽风装置，所述支架横跨太阳能电池片刻蚀机设置，所述支架的上横梁上固定设置有气缸固定板，气缸固定在气缸固定板上，气缸的活塞杆与气体喷淋组件固定板固定，气体喷淋组件通过固定支架与气体喷淋组件固定板连接，升降导杆的一端与气体喷淋组件固定板固定，另一端与升降板固定，升降板设置于气缸固定板的上方，其上设置有多个缓冲器，气体喷淋组件至上横梁之间为密封空间，通过框架及与其安装固定的透明板构成，抽风装置设置于气体喷淋组件的下方，硅片传送滚轮设于两者之间。