[发明专利]基板干燥装置以及方法有效
申请号: | 201610324358.9 | 申请日: | 2016-05-16 |
公开(公告)号: | CN106158707B | 公开(公告)日: | 2019-06-07 |
发明(设计)人: | 金鹏;韩旻成;林舟楫;金禹永 | 申请(专利权)人: | 细美事有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人: | 张海英 |
地址: | 韩国忠淸*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 根据本发明的基板干燥装置包含:腔室,其提供处理基板的空间;以及流体供给单元,其向所述腔室供给工艺流体,所述流体供给单元,包含:供给罐,其用于储存所述流体;供给线,其连接所述供给罐和所述腔室;分支线,其在所述供给线的第一支点分支,在所述供给线的第二支点连接;以及温度调节单元,其在所述第一支点和所述第二支点之间,以使得在所述供给线和所述分支线流动的流体的温度不同的方式调节所述流体的温度。 | ||
搜索关键词: | 干燥 装置 以及 方法 | ||
【主权项】:
1.一种基板干燥装置,其为处理基板的装置,特征在于,包含:腔室,其提供处理基板的空间;以及流体供给单元,其向所述腔室供给工艺流体,所述流体供给单元,包含:供给罐,其用于储存所述流体;供给线,其连接所述供给罐和所述腔室;分支线,其在所述供给线的第一支点分支,在所述供给线的第二支点连接;以及温度调节单元,其在所述第一支点和所述第二支点之间,以使得在所述供给线和所述分支线流动的流体的温度不同的方式调节所述流体的温度,所述基板干燥装置还包括控制所述流体供给单元以及在所述腔室内处理基板的工序的控制器,所述控制器以使供给阶段以及排气阶段反复循环实施n次的方式进行控制,其中所述供给阶段是所述流体供给至所述腔室阶段,所述排气阶段是所述流体从所述腔室进行排气的阶段,且n是2以上的自然数,并且所述控制器以在第m供给阶段供给至所述腔室的所述流体的温度低于在第m‑1供给阶段供给至所述腔室的所述流体的温度的方式对所述温度调节单元进行控制,其中m是2≤m≤n的自然数。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造