[发明专利]一种纯相透明氧化亚铜薄膜的制备方法在审

专利信息
申请号: 201610225636.5 申请日: 2016-04-12
公开(公告)号: CN105839063A 公开(公告)日: 2016-08-10
发明(设计)人: 杜文汉;杨景景;赵宇;张燕;刘珂琴;熊超;朱锡芳 申请(专利权)人: 常州工学院
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/08;C23C14/02
代理公司: 南京知识律师事务所 32207 代理人: 高桂珍
地址: 213022 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种纯相透明氧化亚铜薄膜的制备方法,其步骤包括清洗衬底;制备含铜氧化亚铜薄膜;含铜氧化亚铜薄膜进行后处理获得纯相氧化亚铜薄膜。本发明先采用常规的直流反应磁控溅射技术,在特定的氩氧气氛下制备出含金属铜的氧化亚铜薄膜,然后再一定的气氛条件下进行退火后处理工艺,通过严格控制后处理的温度和时间得到纯相氧化亚铜薄膜。本发明的纯相透明氧化亚铜薄膜的制备方法通过直流反应磁控溅射和后处理工艺的结合,即实现氧化亚铜的高速沉积,又获得纯相氧化亚铜薄膜材料。
搜索关键词: 一种 透明 氧化亚铜 薄膜 制备 方法
【主权项】:
一种纯相透明氧化亚铜薄膜的制备方法,包括如下步骤:步骤1:清洗衬底;步骤2:制备含铜氧化亚铜薄膜;步骤3:含铜氧化亚铜薄膜进行后处理获得纯相氧化亚铜薄膜。
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