[发明专利]一种抑制关态电流的隧穿场效应晶体管有效
申请号: | 201610190368.8 | 申请日: | 2016-03-29 |
公开(公告)号: | CN105633142B | 公开(公告)日: | 2018-07-27 |
发明(设计)人: | 王向展;曹建强;马阳昊;李竞春 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | H01L29/772 | 分类号: | H01L29/772;H01L29/06 |
代理公司: | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人: | 张杨 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 该发明公开了一种抑制关态电流的隧穿场效应晶体管,属于超大规模集成电路领域中逻辑器件与电路领域。利用N型漏区或者P型源区与N型外延层之间的短接,共享高电位,从而使得N型埋层与N型源区或者P型漏区、本征区、P型衬底形成的PN结均为反偏,结果是降低原先器件源区下部由漏极电压控制的隧穿,此时的泄漏电流主要为N型外延层与N型源区或者P型漏区的反偏PN结电流,从而有效降低了小尺寸情况下隧穿场效应晶体管关态电流,此外,埋层可换成宽禁带材料,且避免该材料与硅接触引入二维电子气或极化电荷,则将会进一步降低反偏PN结电流。从而对漏极控制源区向本征区上隧穿进行抑制,以降低TFET的关态电流。 | ||
搜索关键词: | 一种 抑制 电流 场效应 晶体管 | ||
【主权项】:
1.一种抑制关态电流的隧穿场效应晶体管,该晶体管包括:高阻的P型衬底(1)、沟槽隔离结构(2)、N型埋层(3)、漏区(4)、本征区(5)、源区(6)、电极隔离结构(7)、薄外延本征区(8)、栅氧化层(9)、漏电极(10)、栅电极(11)、源电极(12);所述高阻的P型衬底(1)上表面中间位置设置N型埋层(3);N型埋层(3)上表面依次分段覆盖漏区(4)、本征区(5)、源区(6),所述漏区(4)的厚度大于本征区(5)的厚度,本征区(5)和源区(6)厚度相同;所述薄外延本征区(8)设置于本征区(5)上表面,并覆盖部分源区(6);所述薄外延本征区(8)覆盖在源区(6)上的部分对应的上表面设置有栅氧化层(9);所述漏区(4)上表面引出漏电极(10),栅氧化层(9)上表面引出栅电极(11),所述源区(6)上表面引出源电极(12);所述高阻的P型衬底(1)以上的功能区采用沟槽隔离结构(2)与其他器件进行隔离;各电极之间采用电极隔离结构(7)进行隔离。
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