[发明专利]配向膜的制作方法及配向膜制作设备在审
| 申请号： | 201610188179.7 | 申请日： | 2016-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN105759480A | 公开（公告）日： | 2016-07-13 |
| 发明（设计）人： | 林海云;李京鹏;高悦凯;谢振宇;闵泰烨 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333;G02F1/1337;B08B7/00 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 李相雨 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种配向膜的制作方法及配向膜制作设备，该配向膜的制作方法包括：对基板进行清洗工艺，在经过所述清洗工艺的所述基板上涂布配向液，对涂布在所述基板上的所述配向液进行固化工艺，其中，在所述对基板进行清洗工艺之前还包括：对所述基板进行EUV光照。本发明提供的配向膜的制作方法，通过在对基板进行清洗工艺之前对该基板进行EUV光照，通过EUV光照可以将基板表面上不易被清洗掉的有机物杂质分解，并且残留在基板表面的分解物以及基板表面上其他易清洗掉的杂质可通过后续的清洗工艺去除，从而在配向液涂布时有效减小配向液与基板表面的接触角，有效提高配向液与基板表面的黏附性，进而有效降低涂布不良。 | ||
| 搜索关键词： | 制作方法 制作 设备 | ||
【主权项】：
一种配向膜的制作方法，包括：对基板进行清洗工艺，在经过所述清洗工艺的所述基板上涂布配向液，对涂布在所述基板上的所述配向液进行固化工艺，其特征在于，在所述对基板进行清洗工艺之前还包括：对所述基板进行EUV光照。
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