[发明专利]一种高粘度光学薄膜胶带及其制作工艺

摘要

本发明涉及光学胶带技术领域，具体涉及一种高粘度光学薄膜胶带及其制作工艺。高粘度光学薄膜胶带包括从上至下依次设置的轻离型膜层、光学胶黏层和重离型膜层，光学胶黏层由胶黏剂制得，胶黏剂包括以下重量份的组分：甲基丙烯酸丁酯30‑50份、丙烯酸乙酯15‑30份、三羧甲基丙烷三丙烯酸酯10‑20份、丙烯酸3‑8份、蜜胺甲醛树脂2‑5份、三乙烯四胺1‑4份、纳米二氧化硅1‑5份、引发剂0.5‑2份。本发明的胶黏剂中各组分相互配合，使制备的光学薄膜胶带用于粘合时，具有透光性好、耐高温性能好、粘接强度高等优点，其制作工艺简单，生产效率高，产品质量稳定，综合性能优越。

主权项

1.一种高粘度光学薄膜胶带，其特征在于：包括从上至下依次设置的轻离型膜层、光学胶黏层和重离型膜层，所述光学胶黏层由胶黏剂制得，胶黏剂包括以下重量份的组分：所述纳米二氧化硅的粒径为30‑70nm；所述引发剂为偶氮二异丁酸二甲酯、过氧化苯甲酰、偶氮二异丙基咪唑啉盐酸盐中的至少一种；所述高粘度光学薄膜胶带的制作工艺，包括以下步骤：(1)对重离型膜的表面进行电晕处理；(2)在重离型膜的电晕处理面涂布一层经真空脱泡的胶黏剂，烘干至固化程度为60％‑80％，压印后形成光学胶黏层；(3)在光学胶黏层的表面贴合一层轻离型膜，制得所述高粘度光学薄膜胶带；所述步骤(2)中胶黏剂的真空脱泡方法为：将胶黏剂在真空度为－0.1MPa条件下进行第一次真空脱泡，加压，搅拌，使位于胶黏剂内部和底部的气泡上浮，然后在真空度为－0.05MPa至－0.08MPa条件下进行第二次真空脱泡；所述步骤(2)中胶黏剂的烘干方法为：在重离型膜的电晕处理面涂布一层经真空脱泡的胶黏剂后，烘干的温度缓慢升至100‑140℃，并在100‑‑140℃条件下烘60‑150s。