[发明专利]一种高粘度光学薄膜胶带及其制作工艺

说明书

本发明涉及光学胶带技术领域，具体涉及一种高粘度光学薄膜胶带及其制作工艺。高粘度光学薄膜胶带包括从上至下依次设置的轻离型膜层、光学胶黏层和重离型膜层，光学胶黏层由胶黏剂制得，胶黏剂包括以下重量份的组分：甲基丙烯酸丁酯30‑50份、丙烯酸乙酯15‑30份、三羧甲基丙烷三丙烯酸酯10‑20份、丙烯酸3‑8份、蜜胺甲醛树脂2‑5份、三乙烯四胺1‑4份、纳米二氧化硅1‑5份、引发剂0.5‑2份。本发明的胶黏剂中各组分相互配合，使制备的光学薄膜胶带用于粘合时，具有透光性好、耐高温性能好、粘接强度高等优点，其制作工艺简单，生产效率高，产品质量稳定，综合性能优越。

技术领域

本发明涉及光学胶带技术领域，具体涉及一种高粘度光学薄膜胶带及其制作工艺。

背景技术

随着社会的进步和科技的发展，消费者对于电子产品或其他产品的综合性能提出了更高的要求，产品的外观也显得尤为重要。光学薄膜胶带OCA光学胶常用于胶粘透明光学元件，其常用制作方法是是将光学胶做成无基材，然后在上下底层，再各贴合一层离型薄膜，制成双面贴合胶带。由光学胶制成的光学胶黏层是光学薄膜胶带的核心部分，光学胶黏层的性能好坏，直接影响着光学薄膜胶带的使用效果。在电子产品或其他产品的生产过程中，常常需要粘接力强且厚度较薄的胶黏层，在同等情况下，光学胶黏层厚度越薄，其透光性越好。但厚度较薄的胶黏层通常存在粘接强度不高的缺点，且在温差变化大的情况下不能一直维持粘性，容易将胶黏剂从粘着物上剥离。因此，现有的光学胶大多不能在保证良好的光学性能和耐热性的前提下，较好地兼顾粘接强度。

发明内容

本发明的目的是针对现有技术中的上述不足，提供一种粘度高、耐高温性能好、透光性好的光学薄膜胶带。

本发明的另一目在于提供一种高粘度光学薄膜胶带的制备工艺，该制备工艺简单，生产效率高，产品质量稳定，适合大规模工业化生产。

本发明的目的通过以下技术方案实现：

一种高粘度光学薄膜胶带，包括从上至下依次设置的轻离型膜层、光学胶黏层和重离型膜层，所述光学胶黏层由胶黏剂制得，胶黏剂包括以下重量份的组分：

本申请还可以进一步包括常用的胶黏剂添加剂，其的加入不会引起本发明本质性的变化。

其中，所述胶黏剂包括以下重量份的组分：

其中，所述胶黏剂包括以下重量份的组分：

其中，所述纳米二氧化硅的粒径为30-70nm。

其中，所述引发剂为偶氮二异丁酸二甲酯、过氧化苯甲酰、偶氮二异丙基咪唑啉盐酸盐中的至少一种。

其中，所述胶黏剂的制备工艺包括以下步骤：按比例加入各原料组分，通入氮气、搅拌，在85-105℃反应完全后，冷却至室温，得到胶黏剂。

丙烯酸中的羧基上的活泼氢原子可与共聚物分子链上的酯基结合，提高了分子间作用力，从而使胶黏剂的粘接力和内聚力增加。

蜜胺甲醛树脂可将体系中的共聚物分子连接起来以形成交联的网状结构，能提高胶黏层的粘合力、耐溶剂能力，并提高其耐热性，增大内聚强度，改善胶黏层在高温下的粘接性能，综合性能优越。三乙烯四胺在体系中具有良好的溶解性，加快蜜胺甲醛树脂的反应速率，可缩短固化时间，固化反应温度更低。

纳米二氧化硅可提高光学胶黏层的剥离强度和持粘力。在此范围内纳米二氧化硅的粒径小，比表面积大，在有机相体系中分散性好，同时可有效地散射和吸收紫外线，将紫外光转为热量，提高聚合物的耐紫外光老化性能。纳米二氧化硅粒径过大时，由于不同粒径的二氧化硅折光指数不同，使可见光散射程度过大而导致光学胶黏层的透明度降低。