[发明专利]一种高粘度光学薄膜胶带及其制作工艺

权利要求书

1.一种高粘度光学薄膜胶带，其特征在于：包括从上至下依次设置的轻离型膜层、光学胶黏层和重离型膜层，所述光学胶黏层由胶黏剂制得，胶黏剂包括以下重量份的组分：

所述纳米二氧化硅的粒径为30-70nm；

所述引发剂为偶氮二异丁酸二甲酯、过氧化苯甲酰、偶氮二异丙基咪唑啉盐酸盐中的至少一种；

所述高粘度光学薄膜胶带的制作工艺，包括以下步骤：

(1)对重离型膜的表面进行电晕处理；

(2)在重离型膜的电晕处理面涂布一层经真空脱泡的胶黏剂，烘干至固化程度为60％-80％，压印后形成光学胶黏层；

(3)在光学胶黏层的表面贴合一层轻离型膜，制得所述高粘度光学薄膜胶带；

所述步骤(2)中胶黏剂的真空脱泡方法为：将胶黏剂在真空度为－0.1MPa条件下进行第一次真空脱泡，加压，搅拌，使位于胶黏剂内部和底部的气泡上浮，然后在真空度为－0.05MPa至－0.08MPa条件下进行第二次真空脱泡；

所述步骤(2)中胶黏剂的烘干方法为：在重离型膜的电晕处理面涂布一层经真空脱泡的胶黏剂后，烘干的温度缓慢升至100-140℃，并在100--140℃条件下烘60-150s。

2.根据权利要求1所述的一种高粘度光学薄膜胶带，其特征在于：所述胶黏剂包括以下重量份的组分：

3.根据权利要求1所述的一种高粘度光学薄膜胶带，其特征在于：所述胶黏剂包括以下重量份的组分：

4.根据权利要求1-3任一所述的一种高粘度光学薄膜胶带，其特征在于：所述胶黏剂的制备工艺包括以下步骤：按比例加入各原料组分，通入氮气、搅拌，在85-100℃反应完全后，冷却至室温，得到胶黏剂。