[发明专利]减少激光退火的脉冲激光束轮廓的非均匀性的系统及方法在审

专利信息
申请号: 201610156288.0 申请日: 2016-03-18
公开(公告)号: CN105990195A 公开(公告)日: 2016-10-05
发明(设计)人: 王耘 申请(专利权)人: 超科技公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/268
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 申发振
地址: 美国加*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明是公开减少激光退火的脉冲激光束轮廓的非均匀性的系统及方法。所述的方法包含沿光轴定向初始脉冲式激光束,及对每个光脉冲施加相对于所述的光轴的随时间变化的角度偏转量。如此形成新激光束,其中每个光脉冲在空间偏转量δ上可被抹平,此空间偏转量δ足够减少激光束的微观尺度强度变化。此新激光束被用以形成线图像,和使用初始激光束所形成的线图像相比,新激光束所形成的线图像具有较佳的强度均匀性。
搜索关键词: 减少 激光 退火 脉冲 激光束 轮廓 均匀 系统 方法
【主权项】:
一种当形成线图像时减少微观尺度强度变化的方法,所述线图像用以执行半导体基板的激光退火,所述方法包含:a)沿光轴定向激光束,其中所述激光束具有波长λ且包含光脉冲,所述光脉冲具有在10ns至10μs的范围中的时间脉冲长度τ;b)向每个光脉冲施加相对于所述光轴的变化的角度偏转,以使每个光脉冲在空间偏转量δ上被抹平,相比于无角度偏转,所述空间偏转量δ足够以至少1.5X均方根(RMS)的因子来减少所述激光束中的所述微观尺度强度变化,且其中δ≤100μm;且c)使用形成于动作b)中的所述激光束以形成所述线图像。
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