[发明专利]一种多功能连续溅射镀膜线及其镀膜方法与镀膜控制方法

摘要

一种多功能连续溅射镀膜线，包括依次通过阀门连接的前缓冲室、镀膜室、后缓冲室，每一个镀膜室包括连通的镀膜腔体A与镀膜腔体B，每一个镀膜室内均设有1个或多个阴极靶，每一个镀膜室内分别设有一套可在镀膜室的入口与出口之间来回运送基片架的输送装置，每一个镀膜室的入口与出口处分别设有可探测基片架是否到达当前位置的探测装置。一种多功能连续溅射镀膜线的镀膜方法，主要包括检测镀膜室是否有基片、驱动装置正转镀膜与反转镀膜、及循环镀膜等步骤。一种多功能连续溅射镀膜线的镀膜控制方法，主要包括为镀膜室设置有无基片架的属性值F及其驱动装置反转次数值T、正反转镀膜控制等步骤。本发明可用于各种不同组合的膜系镀膜。

主权项

1.一种多功能连续溅射镀膜线，其特征在于，包括依次通过阀门连接的前缓冲室、n个镀膜室、后缓冲室，其中n的数值为大于或等于1的整数，即n个镀膜室为1个镀膜室或多个首尾依次连接的镀膜室，每一个镀膜室分别连接有供气装置及真空泵，每一个镀膜室内均设有1个或多个阴极靶，每一个镀膜室内分别单独设有可在镀膜室的入口与出口之间来回运送基片架的输送装置，每一个镀膜室的入口附近与出口附近分别设有可探测基片架是否到达当前位置的探测装置，所述输送装置包括用于承载基片架的轨道，及用于驱动基片架在轨道上来回运行的驱动装置，任意相邻两个镀膜室内输送装置的轨道位于同一条直线上；所述多功能连续溅射镀膜线的镀膜控制方法，包括以下步骤：1)系统初始化，为每一个镀膜室设置一个表示该镀膜室内有无基片架的属性值F，其中Fn＝X代表当前第n个镀膜室有基片架，Fn＝Y代表当前第n个镀膜室无基片架为空，Fn初始值为Y；根据镀膜层数要求设置每一个镀膜室内的每一个阴极靶开启时驱动装置正反转次数值T，其中Tan代表当前第n个镀膜室的阴极靶a开启时，第n个镀膜室的驱动装置n所需完成的重复正/反转总次数，Tbn代表当前第n个镀膜室的阴极靶b开启时驱动装置n所需完成的重复正/反转总次数；2)启动镀膜线，首先判断当前要进入的第n镀膜室的F值是否为Y，如果为Y基片架进入第n镀膜室，并开启第n镀膜室的阴极靶进行镀膜，如果不为Y则等待；基片架进入第n镀膜室后，第n镀膜室入口附近的探测装置C检测到有基片架，则当前第n镀膜室的F值由Y变为X；3)系统读取当前第n镀膜腔体的Tan与Tbn值，若Tan大于0，则开启第n镀膜腔体的阴极靶a，第n镀膜腔体的驱动装置n正转，基片架从第n镀膜腔体入口处的探测装置C处运行至第n镀膜腔体出口处的探测装置D处时Tan值减1，此时若Tan仍大于0，第n镀膜腔体的驱动装置n反转，使基片架返回至第n镀膜腔体入口处的探测装置C处时Tan值再减1，如此反复，直到Tan值等于0，关闭第n镀膜室阴极靶a；若Tbn大于0，则开启第n镀膜腔体的阴极靶b，如果基片架处于探测器C位置，则第n镀膜腔体的驱动装置n正转，如果基片架处于探测器D位置，则第n镀膜腔体的驱动装置n反转，每次正转反转切换时Tbn值减1，直到Tbn值等于0时，关闭第n镀膜室阴极靶b，若还有其他阴极靶的T值大于0，则驱动装置n继续交替正反转，至最后第n镀膜室最后一个阴极靶的T值等于0，所有阴极靶镀完，第n镀膜腔体镀膜完成；4)判断接下来基片要进入的第n+1镀膜室的Fn+1值是否为Y，如果为Y基片架进入第n+1镀膜室，如果不为Y则等待；基片架进入第n+1镀膜室后，Fn+1值由Y变为X，Fn值由X变为Y，Tn恢复步骤1中的系统初始设定值，下一基片架依次经步骤2、步骤3进入本步骤。