[发明专利]一种多功能连续溅射镀膜线及其镀膜方法与镀膜控制方法

权利要求书

1.一种多功能连续溅射镀膜线，其特征在于，包括依次通过阀门连接的前缓冲室、n个镀膜室、后缓冲室，其中n的数值为大于或等于1的整数，即n个镀膜室为1个镀膜室或多个首尾依次连接的镀膜室，每一个镀膜室分别连接有供气装置及真空泵，每一个镀膜室内均设有1个或多个阴极靶，每一个镀膜室内分别单独设有可在镀膜室的入口与出口之间来回运送基片架的输送装置，每一个镀膜室的入口附近与出口附近分别设有可探测基片架是否到达当前位置的探测装置，所述输送装置包括用于承载基片架的轨道，及用于驱动基片架在轨道上来回运行的驱动装置，任意相邻两个镀膜室内输送装置的轨道位于同一条直线上；

所述多功能连续溅射镀膜线的镀膜控制方法，包括以下步骤：

1)系统初始化，为每一个镀膜室设置一个表示该镀膜室内有无基片架的属性值F，其中Fn＝X代表当前第n个镀膜室有基片架，Fn＝Y代表当前第n个镀膜室无基片架为空，Fn初始值为Y；根据镀膜层数要求设置每一个镀膜室内的每一个阴极靶开启时驱动装置正反转次数值T，其中Tan代表当前第n个镀膜室的阴极靶a开启时，第n个镀膜室的驱动装置n所需完成的重复正/反转总次数，Tbn代表当前第n个镀膜室的阴极靶b开启时驱动装置n所需完成的重复正/反转总次数；

2)启动镀膜线，首先判断当前要进入的第n镀膜室的F值是否为Y，如果为Y基片架进入第n镀膜室，并开启第n镀膜室的阴极靶进行镀膜，如果不为Y则等待；基片架进入第n镀膜室后，第n镀膜室入口附近的探测装置C检测到有基片架，则当前第n镀膜室的F值由Y变为X；

3)系统读取当前第n镀膜腔体的Tan与Tbn值，若Tan大于0，则开启第n镀膜腔体的阴极靶a，第n镀膜腔体的驱动装置n正转，基片架从第n镀膜腔体入口处的探测装置C处运行至第n镀膜腔体出口处的探测装置D处时Tan值减1，此时若Tan仍大于0，第n镀膜腔体的驱动装置n反转，使基片架返回至第n镀膜腔体入口处的探测装置C处时Tan值再减1，如此反复，直到Tan值等于0，关闭第n镀膜室阴极靶a；若Tbn大于0，则开启第n镀膜腔体的阴极靶b，如果基片架处于探测器C位置，则第n镀膜腔体的驱动装置n正转，如果基片架处于探测器D位置，则第n镀膜腔体的驱动装置n反转，每次正转反转切换时Tbn值减1，直到Tbn值等于0时，关闭第n镀膜室阴极靶b，若还有其他阴极靶的T值大于0，则驱动装置n继续交替正反转，至最后第n镀膜室最后一个阴极靶的T值等于0，所有阴极靶镀完，第n镀膜腔体镀膜完成；

4)判断接下来基片要进入的第n+1镀膜室的Fn+1值是否为Y，如果为Y基片架进入第n+1镀膜室，如果不为Y则等待；基片架进入第n+1镀膜室后，Fn+1值由Y变为X，Fn值由X变为Y，Tn恢复步骤1中的系统初始设定值，下一基片架依次经步骤2、步骤3进入本步骤。

2.根据权利要求1所述的一种多功能连续溅射镀膜线，其特征在于，所述输送装置的轨道为设于镀膜室内顶面的槽形轨道，槽形轨道正下方设有支撑起基片架底部的并对基片架提供驱动力的滚轮，滚轮轮缘上设有轮槽，基片架上部在槽形轨道内滑动，下部被定位于滚轮的轮槽内，与滚轮产生相对运动，滚轮由驱动装置驱动。

3.根据权利要求2所述的一种多功能连续溅射镀膜线，其特征在于，每一个镀膜室连接的工艺气体进气装置的进气口位于镀膜室中各阴极靶的正中间，每一个镀膜室连接的真空泵至少有两个，且真空泵的抽气口均匀对称分布于镀膜室的两端。

4.根据权利要求3所述的一种多功能连续溅射镀膜线，其特征在于，所述n个镀膜室的前一半数量的镀膜室与后一半数量的镀膜室之间连接有回转室，n个镀膜室整体对折，使前一半数量的镀膜室与后一半数量的镀膜室内的轨道对折后呈平行对称排列成两列，且前一半数量的镀膜室与后一半数量的镀膜室侧壁相对的一面贴合在一起，或者共用同一道侧壁，当n为偶数时，镀膜室对折后的溅射镀膜线前缓冲室与后缓冲室共用同一个腔室。

5.根据权利要求1～4中任意一项所述的一种多功能连续溅射镀膜线，其特征在于，本镀膜线还设置有控制器，所述阀门、供气装置、真空泵、阴极靶、探测装置、驱动装置、回转室的回转驱动装置均由控制器电连接控制。