[发明专利]一种多功能连续溅射镀膜线及其镀膜方法与镀膜控制方法

说明书

一种多功能连续溅射镀膜线，包括依次通过阀门连接的前缓冲室、镀膜室、后缓冲室，每一个镀膜室包括连通的镀膜腔体A与镀膜腔体B，每一个镀膜室内均设有1个或多个阴极靶，每一个镀膜室内分别设有一套可在镀膜室的入口与出口之间来回运送基片架的输送装置，每一个镀膜室的入口与出口处分别设有可探测基片架是否到达当前位置的探测装置。一种多功能连续溅射镀膜线的镀膜方法，主要包括检测镀膜室是否有基片、驱动装置正转镀膜与反转镀膜、及循环镀膜等步骤。一种多功能连续溅射镀膜线的镀膜控制方法，主要包括为镀膜室设置有无基片架的属性值F及其驱动装置反转次数值T、正反转镀膜控制等步骤。本发明可用于各种不同组合的膜系镀膜。

技术领域

本发明涉及真空镀膜技术与设备，特别的，涉及一种多功能连续溅射镀膜线及其镀膜方法与镀膜控制方法。

背景技术

真空镀膜技术已经广泛应用于各个领域，磁控溅射镀膜技术是比较成熟而且有效的方法之一。在实际应用中，越来越多需求是能够在基片上镀多种材料的膜层和多层膜。而且由于需求不同，这些材料和膜层常常是变化的，因此，对镀膜设备的要求也越来越高。一般，连续溅镀线生产效率高，产能大。但目前连续磁控溅镀线基本都是为了一种特定的用途而设计，即为某一种特定的膜而设计，溅镀线功能可变性小。如果膜系结构改变，常常难以生产，而连续溅镀线在镀多层膜时，由于需要的靶位多，生产线会很长，造价也高。而且，需要对每个靶工作特性如均匀性进行调试，工作量大，调试也困难。因此，理想的连续溅镀线应该具有多功能性，也就是可以用来做多种膜系，镀多种基片材料，且能同时镀多块基片，以提高效率。中国专利201110451479.7公开了一种磁控溅射镀膜生产系统及其生产工艺，其镀膜线采用带回转功能的回转室对工件进行传输，实现工件的多层镀膜，该镀膜线虽然在结构上比较紧凑，但其镀膜线总体的实质长度并没有缩短，需要设置多个回转室才能满足镀多种膜的需求，工件需要频繁往返进出各个镀膜室，镀膜室阀门的频繁开启会影响镀膜室内的真空度，影响镀膜质量。

发明内容

本发明目的在于提供一种多功能连续溅射镀膜线及其镀膜方法与镀膜控制方法，以解决背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供了一种多功能连续溅射镀膜线，包括依次通过阀门连接的前缓冲室、n个镀膜室、后缓冲室，其中n的数值为大于或等于1的整数，即n个镀膜室为1个镀膜室或多个首尾依次连接的镀膜室，每一个镀膜室分别连接有供气装置及真空泵，每一个镀膜室内均设有1个或多个阴极靶，每一个镀膜室内分别单独设有可在镀膜室的入口与出口之间来回运送基片架的输送装置，每一个镀膜室的入口附近与出口附近分别设有可探测基片架是否到达当前位置的探测装置，其中第n镀膜室入口附近的探测装置设为探测装置n-C，出口处的探测装置设为探测装置n-D，所述输送装置包括用于承载基片架的轨道，及用于驱动基片架在轨道上来回运行的驱动装置，任意相邻两个镀膜室内输送装置的轨道位于同一条直线上。

进一步的，所述输送装置的轨道为设于镀膜室内顶面的槽形轨道，槽形轨道正下方设有支撑起基片架底部的并对基片架提供驱动力的滚轮，滚轮轮缘上设有轮槽，基片架上部在槽形轨道内滑动，下部被定位于滚轮的轮槽内，与滚轮产生相对运动，滚轮由驱动装置驱动。

进一步的，每一个镀膜室连接的工艺气体进气装置的进气口位于镀膜室中各阴极靶的正中间，每一个镀膜室连接的真空泵至少有两个，且真空泵的抽气口均匀对称分布于镀膜室的两端。

进一步的，所述n个镀膜室的前一半数量的镀膜室与后一半数量的镀膜室之间连接有回转室，n个镀膜室整体对折，使前一半数量的镀膜室与后一半数量的镀膜室内的轨道对折后呈平行对称排列成两列，且前一半数量的镀膜室与后一半数量的镀膜室侧壁相对的一面贴合在一起，或者共用同一道侧壁，当n为偶数时，镀膜室对折后的溅射镀膜线前缓冲室与后缓冲室可共用同一个腔室。

进一步的，本镀膜线还设置有控制器，所述阀门、供气装置、真空泵、阴极靶、探测装置、驱动装置、回转室的回转驱动装置均由控制器电连接控制。