[发明专利]一种制备石墨烯、六角氮化硼等薄膜材料的化学气相沉积装置在审
申请号: | 201610096667.5 | 申请日: | 2016-02-23 |
公开(公告)号: | CN107099782A | 公开(公告)日: | 2017-08-29 |
发明(设计)人: | 董国材;张祥;唐琪雯 | 申请(专利权)人: | 常州国成新材料科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/34;C23C16/44 |
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地址: | 213149 江苏省常*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种气相沉积设备。本发明一种制备石墨烯、六角氮化硼等薄膜材料的化学气相沉积装置,所述装置包括两个独立的真空腔体——主腔体(1)和副腔体(2)、加热装置(3)、测温装置、供气装置、抽气装置、冷凝装置、传动装置(4)、插板阀(5)及硼氮蒸发源(6)。其中主腔体(1)用于薄膜材料的制备,副腔体(2)用于硼氮源的洗气。本发明采用不锈钢腔壁,使用分子泵+机械泵的抽气装置,本底真空可达到10-8mbar,充分减少杂质气体分子对生长过程造成的影响。采用内加热方式,不仅能降低能耗,而且能形成温度更均匀的恒温区,而温度测量采用直接测量样品或者充分靠近样品,从而得到更准确的温度参数。设计内加热装置的移动降温功能,实现快速降温,有效减少降温过程中碳原子的析出。 | ||
搜索关键词: | 一种 制备 石墨 六角 氮化 薄膜 材料 化学 沉积 装置 | ||
【主权项】:
一种制备石墨烯、六角氮化硼等薄膜材料的化学气相沉积装置,其特征在于,所述装置包括两个独立的真空腔体——主腔体(1)和副腔体(2)、加热装置(3)、测温装置、供气装置、抽气装置、冷凝装置、传动装置(4)、插板阀(5)及硼氮蒸发源(6),其中主腔体(1)用于薄膜材料的制备,副腔体(2)用于硼氮源的洗气。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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