[发明专利]基板处理装置

摘要

本发明提供一种基板处理装置，包括：基板保持单元，一边将基板保持为水平一边使基板围绕通过基板的中央部的铅垂的旋转轴线旋转；处理液供给系统，将包括通过混合来发热的第一液体以及第二液体的处理液向由所述基板保持单元保持的基板供给。供给流路分支成多个上游流路。多个喷出口分别配置在距旋转轴线的距离不同的多个位置。作为药液(SPM)的成分的之一的过氧化氢从成分液流路向上游流路供给。包括多个第一流量调整阀以及多个第二流量调整阀的混合比变更单元针对各上游流路分别独立变更从多个喷出口喷出的药液所包含的硫酸以及过氧化氢的混合比。

主权项

1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：基板保持单元，一边将基板保持为水平，一边使基板围绕通过基板的中央部的铅垂的旋转轴线旋转，处理液供给系统，包括供给流路、多个上游流路、多个成分液流路、多个喷出口、混合比变更单元，将包括通过混合而发热的第一液体以及第二液体的处理液向由所述基板保持单元保持的基板供给；所述供给流路将第一液体向多个所述上游流路引导，多个所述上游流路从所述供给流路分支，将从所述供给流路供给的第一液体向多个所述喷出口引导，多个所述成分液流路分别与多个所述上游流路连接，将要与第一液体混合的第二液体分别向多个所述上游流路供给，多个所述喷出口在多个所述成分液流路的下游的位置分别与多个所述上游流路连接，并分别配置在距所述旋转轴线的距离不同的多个位置，将包括在多个所述上游流路混合的第一液体以及第二液体的处理液，分别向包括所述基板的上表面中央部的所述基板的上表面内的多个位置喷出，所述混合比变更单元针对各所述上游流路分别独立变更从多个所述喷出口喷出的处理液所包含的第一液体以及第二液体的混合比。