[发明专利]一种光固化低分子量氨基甲酸酯丙烯酸酯及其合成方法在审
| 申请号： | 201610067509.7 | 申请日： | 2016-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN105732432A | 公开（公告）日： | 2016-07-06 |
| 发明（设计）人： | 何勇;王雪萍;聂俊 | 申请（专利权）人： | 北京化工大学 |
| 主分类号： | C07C269/02 | 分类号： | C07C269/02;C07C271/20;C07C271/24;C07C271/28;C09D4/00 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人： | 刘萍 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种光固化低分子量氨基甲酸酯丙烯酸酯及其合成方法属于光固化树脂领域。该树脂由小分子二醇或三醇、二异氰酸酯和羟基丙烯酸酯合成，其固化膜性能优异，具有高硬度、高光泽度、极强耐溶剂性和极快的固化速率等特点。本发明的氨基甲酸酯丙烯酸酯分子量较低，缩小了分子链中两端双键之间的距离，同时也增加了分子链的双键密度，使得固化后的薄膜具有更加致密的交联网络，因此可以提高硬度、固化速率、耐溶剂性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光固化 分子量 氨基甲酸酯 丙烯酸酯 及其 合成 方法 | ||
【主权项】：
氨基甲酸酯丙烯酸酯，结构如下(I)![]()
R1为小分子二元醇或三元醇失去羟基上的H后的残留基团；R2为二异氰酸酯类化合物在失去两个NCO后的残留基团；R3为含有一个羟基和至少一个丙烯基的丙烯酸羟基酯或甲基丙烯羟基酯，在失去羟基H后的残留基团。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京化工大学，未经北京化工大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610067509.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
