[发明专利]一种发光二极管的制备方法有效

专利信息
申请号: 201610064660.5 申请日: 2016-01-29
公开(公告)号: CN105576092B 公开(公告)日: 2019-02-05
发明(设计)人: 肖千宇;高本良;薛蕾;常远;林晓文;卞广彪;葛丁壹;王梦杰;陈晞 申请(专利权)人: 华灿光电(苏州)有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L21/78
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 徐立
地址: 215600 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种发光二极管的制备方法,属于半导体技术领域。所述制备方法包括:在GaAs衬底的第一表面上生长AlGaInP外延层;在AlGaInP外延层上设置P型电极,在GaAs衬底的第二表面设置N型电极,得到晶元;对晶元的第一表面进行切割,在晶元的第一表面形成P面切割道;采用刻蚀技术对晶元的第二表面进行切割,在晶元的第二表面形成N面切割道;将晶元的第二表面粘附在胶膜上,并在晶元的第一表面覆盖薄膜;对晶元的第一表面进行裂片,得到若干独立的发光二极管芯片;对胶膜进行扩张,分离发光二极管芯片。本发明通过至少一个表面采用刻蚀技术进行切割,切割效率大大提高,降低了生产成本。
搜索关键词: 一种 发光二极管 制备 方法
【主权项】:
1.一种发光二极管的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:在GaAs衬底的第一表面上生长AlGaInP外延层;在所述AlGaInP外延层上设置P型电极,在所述GaAs衬底的第二表面设置N型电极,得到晶元,所述GaAs衬底的第二表面为与所述GaAs衬底的第一表面相反的表面;对所述晶元的第一表面进行切割,在所述晶元的第一表面形成P面切割道,所述晶元的第一表面为设有所述P型电极的表面;采用刻蚀技术对所述晶元的第二表面进行切割,在所述晶元的第二表面形成N面切割道,所述N面切割道与P面切割道图形相同且位置相对,所述晶元的第二表面为与所述晶元的第一表面相反的表面,各个发光二极管芯片之间通过GaAs衬底连接在一起;将所述晶元的第二表面粘附在胶膜上,并在所述晶元的第一表面覆盖薄膜,所述胶膜包括聚氯乙烯PVC基材和亚克力系粘着剂,所述薄膜为塑料膜或聚氨酯PU膜;采用滚压裂片的方式对所述晶元的第一表面进行裂片,得到若干独立的发光二极管芯片;对所述胶膜进行扩张,分离所述发光二极管芯片;所述对所述晶元的第一表面进行切割,在所述晶元的第一表面形成P面切割道,包括:在所述晶元的第一表面涂覆光刻胶;采用光刻技术形成设定图形的光刻胶;在所述设定图形的光刻胶的保护下,对所述晶元进行电感耦合等离子体ICP刻蚀,在所述晶元的第一表面形成N面切割道,所述N面切割道的宽度为10~20μm;去除所述设定图形的光刻胶。
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