[发明专利]薄膜晶体管阵列基板及其制造方法和液晶面板有效
申请号: | 201610058366.3 | 申请日: | 2016-01-28 |
公开(公告)号: | CN105529336B | 公开(公告)日: | 2019-06-14 |
发明(设计)人: | 周志超 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L21/77 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种薄膜晶体管阵列基板及其制备方法和液晶面板。所述薄膜晶体管阵列基板包括具有一透明基板,还包括:栅极、栅极绝缘层、半导体层、蚀刻阻挡层、源极电极与漏极电极,以及,像素电极。本发明的薄膜晶体管阵列基板通过采用MoTi电极取代传统结构中的ITO电极,使得本发明的所述薄膜晶体管阵列基板的制造工艺中可以同时省掉PV层,减少一道光罩,以降低制造成本,扩大IGZO结构的应用。 | ||
搜索关键词: | 薄膜晶体管 阵列 及其 制造 方法 液晶面板 | ||
【主权项】:
1.一种薄膜晶体管阵列基板,具有一透明基板,其特征在于,所述薄膜晶体管阵列基板还包括:栅极,所述栅极设于所述透明基板上;栅极绝缘层,所述栅极绝缘层设于所述透明基板上,并且覆盖所述栅极;半导体层,所述半导体层设于所述栅极绝缘层上,并且对应所述透明基板上的栅极电极;蚀刻阻挡层,所述蚀刻阻挡层设于所述栅极绝缘层上并覆盖所述半导体层,并且,所述蚀刻阻挡层上形成数个接触孔;源极电极与漏极电极,所述源极电极与漏极电极设于所述蚀刻阻挡层上,并通过所述接触孔分别与所述半导体层连接;以及,像素电极,所述像素电极设于所述源极电极及漏极电极上;其中,所述半导体层由铟镓锌氧化物制成;所述像素电极由钼合金制成。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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