[发明专利]低噪声雪崩光电探测器及其制备方法有效
申请号: | 201610047625.2 | 申请日: | 2016-01-25 |
公开(公告)号: | CN105576072B | 公开(公告)日: | 2018-02-23 |
发明(设计)人: | 赵彦立 | 申请(专利权)人: | 武汉光电工业技术研究院有限公司 |
主分类号: | H01L31/107 | 分类号: | H01L31/107;H01L31/0352;H01L31/18 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 430075 湖北省武汉市东湖新技术开*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种低噪声雪崩光电探测器及其制备方法,该低噪声雪崩光电探测器包括通过扩散、离子注入依次形成不同掺杂类型的N型欧姆接触层/P型欧姆接触层、倍增层、电荷层、P型欧姆接触层/N型欧姆接触层,且电荷层与P型欧姆接触层/N型欧姆接触层之间的底部形成有衬底;所述电荷层、P型欧姆接触层/N型欧姆接触层与衬底之间形成一个倒梯形凹槽;所述倒梯形凹槽内形成有吸收层。所述P型欧姆接触层和N型欧姆接触层上分别设有P型电极和N型电极。本发明的特点是改进一维纵向雪崩光电探测器为二维横向结构,通过降低倍增层的有效厚度到纳米尺寸,利用纳米倍增区的死区效应降低k值。 | ||
搜索关键词: | 噪声 雪崩 光电 探测器 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种低噪声雪崩光电探测器,其特征在于:包括通过扩散、离子注入依次形成不同掺杂类型的N型欧姆接触层/P型欧姆接触层、倍增层、电荷层、P型欧姆接触层/N型欧姆接触层,且电荷层与P型欧姆接触层/N型欧姆接触层之间的底部形成有衬底;所述N型和P型欧姆接触层是通过在低掺杂的硅层侧向两端进行高掺杂形成,掺杂浓度高于1.0×1018/cm3,所述的电荷层是在P型和N型欧姆接触层之间采用精确控制的P型或N型掺杂形成,掺杂浓度范围为1×1017/cm3‑9×1017/cm3,所述电荷层、P型欧姆接触层/N型欧姆接触层与衬底之间形成一个倒梯形凹槽;所述倒梯形凹槽内形成有吸收层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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