[发明专利]低噪声雪崩光电探测器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201610047625.2 申请日: 2016-01-25
公开(公告)号: CN105576072B 公开(公告)日: 2018-02-23
发明(设计)人: 赵彦立 申请(专利权)人: 武汉光电工业技术研究院有限公司
主分类号: H01L31/107 分类号: H01L31/107;H01L31/0352;H01L31/18
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 430075 湖北省武汉市东湖新技术开*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种低噪声雪崩光电探测器及其制备方法,该低噪声雪崩光电探测器包括通过扩散、离子注入依次形成不同掺杂类型的N型欧姆接触层/P型欧姆接触层、倍增层、电荷层、P型欧姆接触层/N型欧姆接触层,且电荷层与P型欧姆接触层/N型欧姆接触层之间的底部形成有衬底;所述电荷层、P型欧姆接触层/N型欧姆接触层与衬底之间形成一个倒梯形凹槽;所述倒梯形凹槽内形成有吸收层。所述P型欧姆接触层和N型欧姆接触层上分别设有P型电极和N型电极。本发明的特点是改进一维纵向雪崩光电探测器为二维横向结构,通过降低倍增层的有效厚度到纳米尺寸,利用纳米倍增区的死区效应降低k值。
搜索关键词: 噪声 雪崩 光电 探测器 及其 制备 方法
【主权项】:
一种低噪声雪崩光电探测器,其特征在于:包括通过扩散、离子注入依次形成不同掺杂类型的N型欧姆接触层/P型欧姆接触层、倍增层、电荷层、P型欧姆接触层/N型欧姆接触层,且电荷层与P型欧姆接触层/N型欧姆接触层之间的底部形成有衬底;所述N型和P型欧姆接触层是通过在低掺杂的硅层侧向两端进行高掺杂形成,掺杂浓度高于1.0×1018/cm3,所述的电荷层是在P型和N型欧姆接触层之间采用精确控制的P型或N型掺杂形成,掺杂浓度范围为1×1017/cm3‑9×1017/cm3,所述电荷层、P型欧姆接触层/N型欧姆接触层与衬底之间形成一个倒梯形凹槽;所述倒梯形凹槽内形成有吸收层。
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